一种DESIRE的干法显影工艺会使用和氧等离子体；硬烘焙：与软烘焙一样通过溶液的蒸发来固化光刻胶，常见工艺流程如下:显影检验（develop inspec  DI）：目的是区分那些有很低可能性通过终掩膜检验的晶圆、提供工艺性能和工艺控制数据、以及分拣出需要重做的晶圆。

显影技术被设计成使之把完全一样的掩膜版图案到光刻胶上。

亮面标牌曝光显影价格


蚀刻技术可以分为湿蚀刻和干蚀刻两类：可以用于航空、机械、化学工业中电子薄片零件精密蚀刻产品的加工，特别在半导体制程上，蚀刻更是不可或缺的技术。在印刷、影印、复印、晒图等行业中，让影像显现的一个过程。蚀刻中的曝光显影是什么意思？其中光圈和速度联合决定进光量，ISO决定ISOCCD/CMOS的感光速度。反转显影中感光鼓与色粉电荷极性是相同的。亮面标牌曝光显影价格


图形电镀过程中，引起的渗镀的原因分析如下：　1、曝光要适度。这样才能达到线条清晰平直，保证图形电镀的合格率及其基板的电性能和其它工艺要求。显影要充分。显影是与下道工序直接相连的重要工序，其质量的好与坏是整个图形转移成功与否的重要标志。蚀刻：利用蚀刻液与铜层反应,蚀去线路板上不需要的铜,得到所要求的线路.亮面标牌曝光显影价格