曝光显影直接决定蚀刻图案的准确性，因此在菲林的制作上，需要非常准确和清晰。胶膜溶涨变软，线条不清晰，色泽暗淡，甚至脱胶，在蚀刻过程中膜起翘，渗镀，会造成难于显影，胶膜发脆，留下残胶等弊病。曝光时间可由光梯尺表等试验或供应商提供的条件进行和调整，一般应采用较大曝光量和较短时间曝光。曝光显影工艺漆膜雕刻法：是手工制版法的一种，较简单。凹凸面曝光显影订制


一种DESIRE的干法显影工艺会使用和氧等离子体；硬烘焙：与软烘焙一样通过溶液的蒸发来固化光刻胶，常见工艺流程如下:显影检验（develop inspec  DI）：目的是区分那些有很低可能性通过终掩膜检验的晶圆、提供工艺性能和工艺控制数据、以及分拣出需要重做的晶圆。

显影技术被设计成使之把完全一样的掩膜版图案到光刻胶上。

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蚀刻中的曝光显影是什么意思？曝光显影：指在摄影过程中进入镜头照射在感光元件上的光量，由光圈、快门、感光度的组合来控制。通常是指使感光纸或摄影胶片感光，摄影感光材料的感光。经过不断改良和工艺设备发展，亦可以用于航空、机械、化学工业中电子薄片零件精密蚀刻产品的加工，特别在半导体制程上，蚀刻更是不可或缺的技术。凹凸面曝光显影订制