进行显影的方式有很多种，广泛使用的方法是喷洒方法。这种显影方式可以分为三个阶段：硅片被置于旋转台上，并且在硅片表面上喷洒显影液；然后硅片将在静止的状态下进行显影；显影完成后，需要经过漂洗，之后再烘干。

显影后留下的光刻胶图形将在后续的刻蚀和离子注入工艺中作为掩模，因此，显影是一步重要的工艺。严格的说，在显影时曝光区和非曝光区的光刻胶都有不同程度的溶解。曝光区与非曝光区的光刻胶溶解速度反差越大，显影后得到的图形对比度越高。

关于蚀刻成型，区分蚀刻部分与不蚀刻部分，都是通过防蚀材料来实现的，利成今天为大家介绍一下常用丝印法蚀刻使用什么防蚀材料。

用于丝印图文转移的防蚀材料都是一些抗蚀油墨，蚀刻加工一般分为碱性蚀刻体系与酸性蚀刻体系，因此丝印防蚀油墨液也分为抗碱油墨和抗酸油墨两种。

抗碱油墨主要用作铝合金的蚀刻，这种油墨是由一些不溶于碱和酸的有机高分子材料配制而成，蚀刻过程结束后，在用有机溶液或其***清洗剂进行清除脱墨，然后完成产品。

高密度图像转移工艺过程中，若控制失灵，极容易渗镀、显影不良或抗蚀干膜剥离等质量问题。

为更进一步了解产生故障的原因，现对此种现象进行分析：

1、渗镀：所谓渗镀，即是由于干膜与覆铜箔板表面粘结不牢，使镀液深入，而造成"负相"部分镀层变厚及镀好的锡铅抗蚀层，给蚀刻带来问题。很容易造成印制电路板的报废，是生产中特别要注意的要点。图形电镀过程中，引起的渗镀的原因分析如下：1、曝光要适度。这样才能达到线条清晰平直，保证图形电镀的合格率及其基板的电性能和其它工艺要求。

2、干膜尽可能平整且厚度均匀。要求干膜应具有很好的柔韧性、良好的塑性、流动性与粘结性以确保达到无间隙贴膜。

3、显影要充分。显影是与下道工序直接相连的重要工序，其质量的好与坏是整个图形转移成功与否的重要标志。