曝光及显影设备还包括主体曝光机10、基板输送机构50及传送装置40。主体曝光机10用于先对基板S的主体进行曝光。传送装置40用于将来自该主体曝光机10的基板S传送至基板输送机构50,传送装置40例如为机械手臂。基板输送机构50用于将基板S输送至显影装置30，基板输送机构50例如为输送辊。由于该基板的长边边缘容易存在残留光阻，因此，本公开通过设置对应于基板的长边边缘的边缘曝光装置20，即可去除绝大部分的残留光阻。


基板S沿图中X轴方向移动，由CXD影像处理器22撷取视野内影像，CCD影像处理器22根据该影像计算偏移量，即，基板S边缘Rl与CCD影像处理器22的边缘R2之间的偏移量Λ y，并将该偏移量的信息提供给驱动装置23，驱动装置23根据接收到的偏移量的信息提供相应的输出量，带动与驱动装置23的输出端连接的边缘曝光机21沿Y轴方向移动，与基板S边缘Rl对齐，从而进行准确的边缘曝边。

氧化时间和电压、电流密度、溶液温度都必须严格按工艺要求执行，不得随意更改。如遇特殊情况，必须经工程主要负责人或工艺工程师同意后方可更改，必须做好详细更改记录。形状大小相差较大的工件及氧化参数不同的工件，不允许在同一氧化缸中进行氧化。

做好当天氧化记录，包括产品型号、数量、氧化时间、电流、电压等，并于当班下班前交班组长。生产中必须保证导电极杆和电接头光洁干燥，确保导电性能良好。