真空镀膜加工之前应注意什么？

有些物质会严重影响真空镀膜的质量，导致颜色异常或变色。因此，不锈钢首饰制造商应尽量避免上述物质隐藏在零件中，在制造过程中无法去除，以免在后续的真空电镀中影响不锈钢涂层的质量。

真空镀膜加工提高反射膜的反射率也可压缩带宽,但对于金属-介质滤光片而言,过于减小带宽将使峰值透射率显著下降,因此在可见区，它们的半宽度在5~10 nm为佳．即使是下面将要讨论的全介质滤光片,增加反射膜层数,提高反射膜的反射率以压缩带宽也是有一定限制的。

真空镀膜的方法材料：

(2)真空蒸镀：将需镀膜的基体清洗后放到镀膜室，抽空后将膜料加热到高温，使蒸气达到约13.3Pa而使蒸气分子飞到基体表面，凝结而成薄膜。

(3)化学气相沉积：通过热分解所选定的金属化合物或有机化合物，获得沉积薄膜的过程。

光学镀膜方法材料

(1)氟化镁：无色四方晶系粉末，纯度高，用其制备光学镀膜可提高透过率，不出崩点。

(2)二氧化硅：无色透明晶体，熔点高，硬度大，化学稳定性好。纯度高，用其制备高质量Si02镀膜，蒸发状态好，不出现崩点。按使用要求分为紫外、红外及可见光用。

真空镀膜技术一般分为两大类，即物理气相堆积（PVD）技术和化学气相堆积（CVD）技术。

物理气相堆积技术具有膜/基结合力好、薄膜均匀细密、薄膜厚度可控性好、运用的靶材广泛、溅射规模宽、可堆积厚膜、可制取成分安稳的合金膜和重复性好等长处。一同，物理气相堆积技术由于其工艺处理温度可控制在500℃以下，因而可作为Z终的处理工艺用于高速钢和硬质合金类的薄膜刀具上。

请问什么是PVD镀膜? 什么是PVD镀膜机?

PVD(物理气相沉积)技术主要分为三类，真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和真空离子镀膜。相对于PVD技术的三个分类，相应的真空镀膜设备也就有真空蒸发镀膜机、真空溅射镀膜机和真空离子镀膜机。近十多年真空离子镀技术的发展是快的，它已经成为了当代进的表面处理方法之一。我们通常所说的PVD镀膜，指的就是真空离子镀膜;通常所说的PVD镀膜机，指的也就是真空离子镀膜机。