真空镀膜技能一般分为两大类，即物理气相堆积（PVD）技能和化学气相堆积（CVD）技能。

物理气相堆积技能具有膜/基结合力好、薄膜均匀致密、薄膜厚度可控性好、应用的靶材广泛、溅射规模宽、可堆积厚膜、可制取成分稳定的合金膜和重复性好等优点。

化学气相堆积技能是把含有构成薄膜元素的单质气体或化合物供应基体，凭借气相作用或基体外表上的化学反应，在基体上制出金属或化合物薄膜的办法，主要包含常压化学气相堆积、低压化学气相堆积和兼有CVD和PVD两者特点的等离子化学气相堆积等。

真空镀膜技能长处主要表现在以下几个方面：

三、进步耐候性，一般塑料在室外老化很快，主要原因是紫外线照射所致，而镀铝后，铝对紫外线反射Z强，因而，耐候性大大进步；

四、减少吸水率，镀膜次数愈多，愈少，吸水率下降，制品不易变形，进步耐热性；

五、使塑料外表有导电性；

六、简单清洗，不吸尘。

在真空镀膜加工中环保的说明

一、真空电镀加工的镀层厚度均匀致密。 无论工件如何复杂，均可在工件上得到均一镀层，其镀层精度可达±1微米。

二、各种基体材料均可处理，包括金属、半导体及非金属。

真空镀膜加工

采用电镀工艺技术生产加工，性能稳定，使用时间长。多层电镀一多层电镀处理，防止生锈，提高抗腐蚀性增进美观度。更多选择多种款式、多种工艺多种材质供您选择。

高真空的条件下加热金属或非金属材料，使其蒸发并凝结于镀件（金属、半导体或绝缘体）表面而形成薄膜的一种方法。例如，真空镀铝、真空镀铬等。简单地说，在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射，使其在被涂覆的物体（称基板、基片或基体）上凝固并沉积的方法，称为真空镀膜。