真空镀膜加工的科学蒸镀

真空蒸镀设备的工作室为金属钟罩，并备有手动的或液压的提升机构。底盘下面是由机械泵和扩散泵组成的抽气系统，通过真空阀门对工作室抽真空。气体通过针阀进人真空室，底盘上有真空测试用的规管。利用.上述的抽气系统可以使工作室的真空度达10-9~10-*Pa以上,采用加热器烘烤基片以便去除基片上吸附的气体。镀膜材料是通过电阻加热的蒸发源来蒸发的，它们可以呈丝状或加工成舟状。镀膜材料呈“游标”状态悬挂着或缠绕在蒸发源丝的上

真空镀膜加工的基本技能要求

9、真空室接不同电位的各部分间的绝缘电阻值的巨细，均按GB/T11164-1999中的4.4.6

10、其他注意事项

1）环境温度：10-30oC  2）相对湿度：不大于75%   3）冷却水进水温度：不高于25oC   4）冷却水质：城市自来水或相当质量的水。   5）供电电源：380V三相50Hz或220V单相50Hz(由所用电器需求而定)；电压波动范围：342-399V或198-231V；频率波动范围：49-51Hz。  6）设备所需的压缩空气，液氮，冷水、热水等的压力、温度，消耗量等，均应在产品运用说明书中写明。  7）设备周围环境整齐，空气清洁，不应有引起电器及其他金属件表面腐蚀或引起金属间导电的尘埃或气体存在。

       真空镀膜技术的特点：

      1、镀覆材料广泛：可作为真空镀蒸发材料有几十种，包括金属、合金和非金属。真空镀膜加工还可以像多层电镀一样，加工出多层结构的复合膜，满足对涂层各种不同性能的需求。

      2、真空镀膜技术可以实现不能通过电沉积方法形成镀层的涂覆：如铝、钛、锆等镀层,甚至陶瓷和金刚石涂层，这是十分难能可贵的。

      3、真空镀膜性能优良：真空镀膜厚度远小于电镀层。但涂层的耐摩擦和耐腐蚀性能良好。孔隙率低，而且无氢脆现象，相对电镀加工而言可以节约大量金属材料。

      4、环境效益优异：真空镀膜加工设备简单、占地面积小、生产环境优雅洁净，无污水排放，不会对环境和操作者造成危害。在注重环境保护和大力推行清洁生产的形势下，真空镀膜技术在许多方面可以取代电镀加工。

       目前，薄膜制程技术广泛应用于半导体工业及精密机械上，由于利用薄膜制程技术所生产的产品具有很高附加价值，使薄膜制程技术与薄膜材料被广泛应用于研究和实际，同时带来镀膜技术的迅速发展。通常，镀膜方法主要包括离子镀膜法、磁控溅镀、真空蒸发法、化学气相沉积法等。然而，随着集成电路的密集及微型化，精密机械的精度提升，对于镀膜厚度要求愈渐严苛。