镀膜材料一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程（散点－岛状结构-迷走结构-层状生长）形成薄膜。

真空镀膜主要利用辉光放电将气离子撞击靶材表面，靶材的原子被弹出而堆积在基板表面形成薄膜。溅镀薄膜的性质、均匀度都比蒸镀薄膜来的好，但是镀膜速度却比蒸镀慢很多。

真空镀膜加工的常用办法

（1）真空蒸镀：将需镀膜的基体清洗后放到镀膜室，抽空后将膜料加热到高温，使蒸气到达约13.3Pa而使蒸气分子飞到基体表面，凝结而成薄膜。

（2）阴极溅射镀：将需镀膜的基体放在阴极对面，把惰性气体（如）通入已抽空的室内，保持压强约1.33～13.3Pa，然后将阴极接上2000V的直流电源，便激发辉光放电，带正电的离子碰击阴极，使其射出原子，溅射出的原子经过惰性气氛堆积到基体上形成膜。

真空镀膜加工适用于那些地方

镀膜常用在相机镜头、近视、、老花镜等纠正眼镜上运用。

镀膜是在外表镀上非常薄的通明薄膜。目的是希望削减光的反射，添加透光率，抗紫外线并抑低耀光、鬼影;不同色彩的镀膜，也使的成像色彩平衡的不同。此外，镀膜尚可推迟镜片老化、变色的时间。

在真空镀膜加工中环保的说明

五、真空电镀加工的表面硬度高 化学镀镍层的硬度一般在HV300-600，高的甚至可达到HV700以上，而电镀镍的硬度仅为 HV160-180，显然化学镀镍层的硬度要远大于电镀层的硬度.而其化学镀镍层经过一定的热处理后，其硬度还可以提高，可达HV900以上。

六、自润滑性好 经合金镀液处理过的金属表面是一种非晶态，即处于基本平面状态，有自润滑性，因此摩擦 系数小，非粘着性好。

       PVD真空镀膜原理是什么？

       离子镀膜(PVD镀膜)技术，其原理是在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质电离，在电场的作用下，使被蒸发物质或其反应产物沉积在工件上。

       采用PVD镀膜技术镀出的膜层，具有高硬度、高耐磨性(低摩擦系数)、很好的耐腐蚀性和化学稳定性等特点，膜层的寿命更长;同时膜层能够大幅度提高工件的外观装饰性能。