真空镀膜加工磁控溅射技术有很多种。每个都有不同的工作原理和应用对象。但有一个共同点：磁场和电子之间的相互作用使电子在靠近目标表面的掩埋螺旋中运行，从而增加电子撞击产生离子的概率。产生的离子在电场的作用下与靶表面发生碰撞，并从靶表面飞溅出去。

在近几十年的发展中，永磁体逐渐被使用，而线圈磁体很少被使用。

目标源可分为平衡源和非平衡源。平衡靶源的涂层均匀，且非平衡靶源的涂层与基材的附着力强。平衡靶源主要用于半导体光学薄膜，非平衡靶源主要用于装饰膜的佩戴。

　真空镀膜是一种由物理方法产生薄膜材料的技术，在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上。此项技术先用于生产光学镜片，如航海望远镜镜片等；后延伸到其他功能薄膜，唱片镀铝、装饰镀膜和材料表面改性等，如手表外壳镀仿金色，机械刀具镀膜，改变加工红硬性。

任何固体材料在大气环境下都会溶解和吸附一些气体，当材料置于真空状态时就会因为脱附、解析而出气。出气的速率与材料中的气体含量成正比。不同的材料解析的气体成分及解析的温度及时间是不同的。

       电子束蒸发镀是将蒸发材料放入水冷铜坩锅中，直接利用电子束加热，使蒸发材料气化蒸发后凝结在基板表面形成膜，是真空蒸发镀膜技术中的一种重要的加热方法和发展方向。电子束蒸发克服了一般电阻加热蒸发的许多缺点，特别适合制作熔点薄膜材料和高纯薄膜材料。

       优点：

       1、电子束轰击热源的束流密度高，能获得远比电阻加热源更大的能量密度。

       2、由于被蒸发材料是置于水冷坩锅内，因而可避免容器材料的蒸发，以及容器材料与蒸镀材料之间的反应，这对提高镀膜的纯度极为重要。

       3、热量可直接加到蒸镀材料的表面，因而热效率较高热传导和热辐射的损失少。

       为什么真空镀膜加工在我们的生活中运用的如此普遍呢？这得益于真空镀膜沉积的膜层能使材料具有新的、良好的物理和化学性能。含金镀层具备良好的导电性和耐蚀性使得氢能源汽车电堆使用性能和寿命大大提升；硬质膜层可以有效保护常规佩戴的手表、首饰等刮花碰伤；镀层耐腐蚀性能可以有效地防止产品生锈变色；镀层色彩的多样性能够满足各类消费者的搭配所需；食品级镀层让我们的用餐变得更加有情调；防指纹镀层让我们使用的产品常保清新亮丽。