真空镀膜加工的性能优势

去除或减少污染物将有利于获得良好真空，增加连接强度和气密性，提高产品的寿命和可靠性。真空镀膜设备成膜性能好，真空电镀设备涂层的致密度、覆盖能力、抗溶剂能力与耐光照能力等性能良好。

镀膜技术作为材料制备的新技术，已从实验室的探索性研究转而应用于大规模的工业生产，并且正在向各个行业中渗透,其应用范围和作用还正在不断地扩大和深化。这种新技术不仅涉及到物理学、化学、结晶学、表面科学和固体物理等基础学科，还和真空、冶金和化工等技术领域密切相关。

在电子学方面真空镀膜更占有较为重要的地位。各种规模的继承电路。包括存贮器、运算器、告诉逻辑元件等都要采用导电膜、绝缘膜和保护膜。作为制备电路的掩膜则用到铬膜。磁带、磁盘、半导体激光器，约瑟夫逊器件、电荷耦合器件( CCD )也都甬道各种薄膜。

在元件方面，在真空中蒸发镍铬，铬或金属陶瓷可以制造电阻，在塑料上蒸发铝、一氧化硅、二氧化钛等可以制造电容器，蒸发硒可以得到静电复印机用的硒鼓、蒸发钛酸钡可以制造磁致伸缩的起声元件等等。真空蒸发还可以用于制造超导膜和惯性约束巨变反应用的微珠镀层。

真空镀膜技术一般分为两大类，即物理气相堆积（PVD）技术和化学气相堆积（CVD）技术。

物理气相堆积技术具有膜/基结合力好、薄膜均匀细密、薄膜厚度可控性好、运用的靶材广泛、溅射规模宽、可堆积厚膜、可制取成分安稳的合金膜和重复性好等长处。一同，物理气相堆积技术由于其工艺处理温度可控制在500℃以下，因而可作为Z终的处理工艺用于高速钢和硬质合金类的薄膜刀具上。

真空镀膜技能长处主要表现在以下几个方面：

三、进步耐候性，一般塑料在室外老化很快，主要原因是紫外线照射所致，而镀铝后，铝对紫外线反射Z强，因而，耐候性大大进步；

四、减少吸水率，镀膜次数愈多，愈少，吸水率下降，制品不易变形，进步耐热性；

五、使塑料外表有导电性；

六、简单清洗，不吸尘。

在真空镀膜加工中环保的说明

一、真空电镀加工的镀层厚度均匀致密。 无论工件如何复杂，均可在工件上得到均一镀层，其镀层精度可达±1微米。

二、各种基体材料均可处理，包括金属、半导体及非金属。