高真空电子束蒸发镀膜机是在高真空条件下，采用电子束轰击材料加热蒸发的方法，在衬底上镀制各种金属、氧化物、导电薄膜、光学薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、超硬膜等；可镀制混合物单层膜、多层膜或掺杂膜；可镀各种高熔点材料。

可根据用户使用要求，选配石英晶体膜厚自动控制及光学膜厚自动控制两种方式, 通过PLC 和工控机联合实现对整个镀膜过程的全程自动控制, 包括真空系统、烘烤系统、蒸发过程和膜层厚度的监控功能等，从而提高了工作效率和保证产品质量的一致性和稳定性。

影响磁控溅射真空镀膜机薄膜均匀性的因素有哪些?

磁场不均匀的影响

由于实际的磁控溅射装置中电场和磁场不是处处均匀的，也不是处处正交的，都是空间的函数。写出的三维运动方程表达式是不可解的，至少没有初等函数的解。所以磁场的不均匀性对离子的影响，也即对成膜不均匀性的影响是难以计算的，好的方法就是配合实验具体分析。图1是用中频孪生靶柔性卷绕磁控溅射镀膜装置实验得出的靶磁场均匀性和成膜厚度均匀性的对应关系。

真空镀膜机扩散泵维修与保养

2、扩散泵停止工作时，泵内应保持真空状态，以免泵油劣化。

3、被抽气体应是干燥、无腐蚀、无灰尘的气体。

4、扩散泵如暂时不用，保管期间应该保持真空状态，以免泵油污染和各零件腐蚀并将冷却水套入的剩水吹净。保持场地的室温应在10-40摄氏度之间。

5、待水分挥发干以后装好泵芯，加入新扩散泵油，并装回机体，接好水管，装好电炉盘，便可以重新开机。