真空镀膜加工的科学蒸镀

在真空蒸镀时，气态粒子是由放于蒸发源中的蒸发材料产生的，而蒸发源的加热可以采用电阻法、高频感应法、电子束轰击、激光蒸发或放电法等。图1-1是真空蒸镀设备和一些蒸发源的简图。该真空蒸镀设备的工作室为金属钟罩，并备有手动的或液压的提升机构。底盘下面是由机械泵和扩散泵组成的抽气系统，通过真空阀门对工作室抽真空。

真空镀膜加工的基本技能要求

9、真空室接不同电位的各部分间的绝缘电阻值的巨细，均按GB/T11164-1999中的4.4.6

10、其他注意事项

1）环境温度：10-30oC  2）相对湿度：不大于75%   3）冷却水进水温度：不高于25oC   4）冷却水质：城市自来水或相当质量的水。   5）供电电源：380V三相50Hz或220V单相50Hz(由所用电器需求而定)；电压波动范围：342-399V或198-231V；频率波动范围：49-51Hz。  6）设备所需的压缩空气，液氮，冷水、热水等的压力、温度，消耗量等，均应在产品运用说明书中写明。  7）设备周围环境整齐，空气清洁，不应有引起电器及其他金属件表面腐蚀或引起金属间导电的尘埃或气体存在。

真空镀膜应用是真空应用中的一个大分支，在光学、电子学、理化仪器、包装、机械以及表面处理技术等众多方面有着十分广泛的应用。

真空蒸镀：其原理是在真空条件下，用蒸发器加热带蒸发物质，使其气化或升华，蒸发离子流直接射向基片，并在基片上沉积析出固态薄膜的技术。

溅射镀膜:溅射镀膜是真空条件下，在阴极接上2000V高压电，激发辉光放电，带正电的离子撞击阴极，使其射出原子，溅射出的原子通过惰性气氛沉积到基片上形成膜层。

       真空镀膜涂层附着力的影响因素：

       首先一大因素就是材质，有些材质不适合做真空镀膜涂层，例如锌合金、铝和裸铜等，直接做真空镀膜会出现起泡、掉摸等附着力差的现象。

       其次附着力受产品表面的洁净度影响，如果产品表面的脏污、杂质或者披锋等没有清理干净，真空镀膜涂层就会附着在这些杂质上，一旦杂质掉落，涂层也随之剥落，我们称之为假附着。

       第三个影响因素就是基材的耐腐蚀性能，真空涂层虽细腻致密，但是基材缺陷并不能完全覆盖，基材腐蚀一般从缺陷处开始，基材一旦被腐蚀，膜层就成了中空状态或者直接随之剥落；第四个影响因素就是工艺的优良程度，沉积的温度、偏压等是否到位，沉积的膜层应力是否过大等等；产品在非常特殊的环境下使用，而这种环境又超出真空镀膜涂层能承受的范围。