真空纳米镀膜机的工作原理及操作方法，离子镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空蒸发镀膜机、真空多弧离子镀膜机、真空中频磁控溅射镀膜机、多功能中频磁控溅射多弧复合离子镀膜机、真空光学(电子束蒸发)镀膜机等系列真空镀膜设备，主要思路是分成蒸发和溅射两种。

离子溅射镀膜，多半是在反应气体存在下进行的，化合物沉积膜的稳定性和光学常数，依赖于气体的类型和阴极材料。常用的反应气体为氧气，常用的阴极材料有铁、镍、铜铅等，有时电刚金、铂、钯、铟和其他金属。反应溅射形成的氧化物是属于有吸收而折射率不是很高的镀膜材料。

1.1真空镀膜vacuumcoating：在处于真空下的基片上制取膜层的一种方法。     

1.2基片substrate：膜层承受体。    

1.3试验基片testingsubstrate：在镀膜开始、镀膜过程中或镀膜结束后用作测量和（或）试验的基片。    

1.4镀膜材料coatingmaterial：用来制取膜层的原材料。    

1.5蒸发材料evaporationmaterial：在真空蒸发中用来蒸发的镀膜材料。    

1.6溅射材料sputteringmaterial：有真空溅射中用来溅射的镀膜材料。    

1.7膜层材料(膜层材质)filmmaterial：组成膜层的材料。    

1.8蒸发速率evaporationrate：在给定时间间隔内,蒸发出来的材料量,除以该时间间隔    

1.9溅射速率sputteringrate：在给定时间间隔内,溅射出来的材料量,除以该时间间隔。    

1.10沉积速率：在给定时间间隔内,沉积在基片上的材料量,除以该时间间隔和基片表面积。    

1.11镀膜角度coatingangle：入射到基片上的粒子方向与被镀表面法线之间的夹角。

实验室用小型蒸发镀膜机

用作真空蒸发镀的装置称为蒸发镀膜机。蒸发镀膜机主要由真空室、排气系统、蒸发系统和电气设备四部分组成。

真空室是放置镀件、进行镀膜的场所，直径一般为400~700mm，高400~800mm，用不锈钢或碳钢制作，有水冷却装置。

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