真空纳米镀膜机设备的主要用途
(1)各种功能性薄膜:如具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜。例如,低温沉积氮化硅减反射膜,以提高太阳能电池的光电转换效率。
(2)装饰领域的应用,如各种全反射膜及半透明膜等,如手机外壳,鼠标等。
(3) 在微电子领域作为一种非热式镀膜技术,主要应用在化学气相沉积(CVD)或金属有机
(4)化学气相沉积(MOCVD)生长困难及不适用的材料薄膜沉积,而且可以获得大面积非常均匀的薄膜。
磁控溅射除上述已被大量应用的领域,还在高温超导薄膜、铁电体薄膜、巨磁阻薄膜、薄膜发光材料、太阳能电池、记忆合金薄膜研究方面发挥重要作用。
真空镀膜行业市场调查分析报告显示,真空磁控溅射镀膜集热板与目前使用的涂漆集热板、阳极氧化集热板和黑铬涂层集热板等相比具有无法比拟的优点和性能。它具有良好的光谱选择性吸收特性,从而使平板太阳能热水器的热效率得到了极大地提高,而且在生产过程中不会产生任何环境污染。膜层理化性能好,提高了涂层的使用寿命,有利于连续式工业化。
气相沉积设备价格根据工艺要求选择镀制方式及形式,真空测量可选择数字式智能真空计及其***的测量规管,及其它测量仪器。膜厚测量可选用方块电阻测量仪,透过率计等。
气相沉积设备价格根据设备使用特点,可选择手动、半自动、全自动或其组合的控制方式。
气相沉积设备价格根据需烘烤的结构提出烘烤温度、材质以及所需配备相应仪表测量。
气相沉积设备价格完善的报警系统,对真空室体、缺水、扩散泵断相、气压、电源负载的过压、过流等异常情况进行声光报警。
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