金手指纳米镀膜 能在金、银、钨、钴、钯等不同表面形成2-10nm厚度左右的镀层，从而使金属表面具有良好的耐磨性、导电性能、耐腐蚀、耐高温、防氧化及改变表面张力等特性，提升材料性能，改善产品品质。金手指纳米镀膜此项技术主要有以下几方面应用：镀膜探针；镀膜金手指；镀膜 SOCKET；镀银LED支架；ATP 包装材料；传统产业及民用产品使用

纳米镀膜可以<300度C，使用不变色不会氧化。可以耐300度以下高温不会出现氧化变色问题，从而可以实现SMT工艺时免贴胶带过炉，大大提高您的良品率，节省开支，甚至可以用镀银取代镀金。

对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且终沉积在基片表面，经历成膜过程，终形成薄膜。

溅射镀膜又分为很多种，总体看，与蒸发镀膜的不同点在于溅射速率将成为主要参数之一。

溅射镀膜中的激光溅射镀膜pld，组分均匀性容易保持，而原子尺度的厚度均匀性相对较差(因为是脉冲溅射)，晶向(外沿)生长的控制也比较一般。以pld为例，因素主要有：靶材与基片的晶格匹配程度、镀膜氛围(低压气体氛围)、基片温度、激光器功率、脉冲频率、溅射时间。

(2)各种镀膜技术都需要有一个蒸发源或靶子，以便把蒸发制膜的材料转化成气体。由于源或靶的不断改进，大大扩大了制膜材料的选用范围，无论是金属、金属合金、金属间化合物、陶瓷或有机物质，都可以蒸镀各种金属膜和介质膜，而且还可以同时蒸镀不同材料而得到多层膜。

(3)蒸发或溅射出来的制膜材料，在与待镀的工件生成薄膜的过程中，对其膜厚可进行比较的测量和控制，从而保证膜厚的均匀性。