真空镀膜应用，简单地理解就是在真空环境下，利用蒸镀、溅射以及随后凝结的办法，在金属、玻璃、陶瓷、半导体以及塑料件等物体上镀上金属薄膜或者是覆盖层。相对于传统镀膜方式，真空镀膜应用属于一种干式镀膜。真空条件下制备薄膜，环境清洁，膜不易受到污染，因此，可获得致密性好、纯度高、膜层均匀的膜。

物理气相沉积：在真空状态下，镀膜材料经蒸发或溅射等物理方法气化，沉积到基片上的一种制取膜层的方法。

真空镀膜加工是一种由物理方法产生薄膜材料的技术。在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上。

真空微米涂装是一种新型的涂装技术。真空气相沉积制程，是在常温的真空室中，让活性分子在被涂装的物件表面生成披覆的聚合物薄膜。 可涂装到任何形状的表面，且不产生死角。包括尖锐的錂角隙缝内部与极细微的中。膜厚均可达到一致性的被覆在产品的任何部位。 

真空镀膜加工是保证真空镀膜镀膜质量的关键。镀膜操作：待真空镀膜镀件上架并装上钨丝，然后入炉，检查接触是否良好，转动正常，关真空镀膜真空室，抽真空。

物理气相沉积技术表示在真空条件下，采用物理方法，将材料源——固体或液体表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子，并通过低压气体（或等离子体）过程，在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。 物理气相沉积的主要方法有，真空蒸镀、溅射镀膜、电弧等离子体镀、离子镀膜，及分子束外延等。发展到目前，物理气相沉积技术不仅可沉积金属膜、合金膜、还可以沉积化合物、陶瓷、半导体、聚合物膜等。

在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射，使其在被涂覆的物体（称基板、基片或基体）上凝固并沉积的方法，称为真空镀膜。

纳米镀膜技术及研发使用配方, 能在金、银、钨、钴、钯等不同表面形成2-10nm厚度左右的镀层，从而使金属表面具有良好的耐磨性、导电性能、耐腐蚀、耐高温、防氧化及改变表面张力等特性，从而提升材料性能，可以的改善产品品质。