真空镀膜设备主要指需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。

根据工艺要求选择不同规格及类型镀膜设备，其类型有电阻蒸发真空镀膜设备、电子束蒸发真空镀膜设备、磁控溅射真空镀膜设备、离子镀真空镀膜设备、磁控反应溅射真空镀膜设备、空心阴极离子镀和多弧离子镀等。

真空镀膜机是目前制作真空条件应用为广泛的真空设备，一般用真空室、真空机组、电气控制柜三大部分组成。真空镀膜设备有哪些特点?蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，形成薄膜。

对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且沉积在基片表面，经历成膜过程，形成薄膜。

真空电镀因其工艺的便利性，可以在红、黄、蓝三基色的基础上调整配方和比例从而形成多种的颜色效果（比如粉色、红色、绿色等），而传统的水电镀则只能制作光铬、哑铬、黑铬、白铬等等少数颜色效果，与真空电镀的颜色丰富程度。相比于铝、铜、铁、不锈钢等金属物体来说，塑料物体的制作工艺具有成本低廉易加工的优势。而经过真空镀膜加工的塑料物体富有金属质感，大大降低了工业及消费电子类产品的制造成本。。