真空磁控阴极溅射法：平板玻璃在具有高真空的真空腔体内，处在负电压的两极间的工作气体正离子在正交电磁场的作用下飞向阴极，在很短的阴极位降区内获得很大的能量去迅速轰击靶材，从而使阴极(靶材)原子飞向玻璃基片--玻璃沉积膜层，溅射出的二次电子(此过程称γ过程)在电磁场作用下按旋轮线运动参与碰撞电离，蟹衍载流子，这样就能源源不断地轰击阴极，提供足够数量的正离子，形成的等离子区使持续辉光放电，其可以一次完成多层镀膜，有着的膜层均匀性，***的边缘复盖和良好的附着力。镀膜有着优于和区别于其它真空磁控溅射镀膜机的地方是：它的平面磁控靶上的磁场是由环形磁铁产生的，可将半园环形磁铁看成是***T微扇柱状磁铁的组合 。所以，其相应点磁标势较稳定，才能生产出均匀牢固的镀膜层。

镀膜制造需要部分耗材1.SIO2颗粒或环状(∮300*∮230*T7.5mm,)需要根据机台配置选用。2.TIO2颗粒。3.晶振片Filtex 6MHZ或INFICON6MHZ。4.监控片BK7 Φ142*80*1.8mm,需要根据机台配置选用。5.铜坩埚,需要根据机台配置选用。6.铝箔厚度0.05mm*宽610mm。7.电子***灯丝,需要根据机台配置选用。8.离子源,需要根据机台配置选用耗材。

高真空离子镀适用范围比较广，如ABS料、ABS+PC料、PC料的商品。传统水电镀技术流程杂乱、环境污染大、设备成本高、对作业人员身体伤害大，电镀出来产品外观损坏大，产品稳定性差。而高真空离子镀它是以真空技术为基础，利用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。简单地说，在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射，使其在被涂覆的物体（称基板、基片或基体）上凝固并沉积的方法，也就是我们俗称的真空镀膜。