平面抛光研磨机的性能受到哪些挑战

平面抛光研磨机的性能受到哪些挑战 平面抛光研磨机适用于各种材料研磨抛光，在光学玻璃、石英晶片、硅片、LED蓝宝石衬底等要求超薄工件的领域中作用突出。互联网的生活将人们的衣食住行紧紧地联系在一起，进而对手机的需求越来越大，而平面抛光研磨机行业也正在不断发展。 然而，随着对研磨产品的性能要求不断提高，平面抛光研磨机性能也在不断受到挑战。具体来说，石英晶片、硅片等要求厚度越来越薄，为了提高振荡频率。而蓝宝石衬底片为了利于散热也在要求厚度变薄，手机零件方面对工件的精度、光洁度要求也越来越高。 总而言之，平面抛光研磨机要应对这些挑战，厂家一方面要改善设备的各方面性能，另一方面要提高自身的研磨加工技术。

平面研磨机需要的设备有哪些

平面研磨机需要的设备有哪些 研磨机主机采用调速电机驱动，配置大功率减速系统，软启动、软停止，运转平稳。通过上、下研磨盘、太阳轮、游星轮在加工时形成四个方向、速度相互协调的研磨运动，达到上下表面同时研磨的运作。下研磨盘可升降，方便工件装卸。气动太阳轮变向装置，控制工件两面研磨精度和速度。随机配有修正轮，用于修正上下研磨盘的平行误差。 1、磨盘：如遇到较软的工件材料时，比如说研磨光学玻璃这种材质的工件，我们可以采用半软质的磨盘（比如锡盘）或者软质的磨盘（比如沥青盘）等，使用这类研磨盘的缺点是磨盘比较容易保持平面度，所以会对加工工件的平面度产生一定的影响，而优点是研磨出的工件表面变质层较小，且表面粗糙度也小。要想获取较高的研磨表面质量，需选用正确且适合的磨盘。 2、磨粒：它主要是按照硬度分为两类（硬磨粒和软磨粒），选用研磨时用到的磨粒具备功能体现为形状、尺寸均匀一致；能适当的破碎，使切刃锋利；磨粒的熔点要比工件熔点高；磨粒在加工也中易分散等。 3、加工液：研磨抛光加工液通常由基液（水性或油性）、磨粒、添加剂三部分组成，作用是供给磨粒、排屑、冷却和润滑。对加工液的要求如下： 1）能够有效散热，以免研具和工件表面热变形； 2）不可污染工件的； 3）粘性低的，可提高磨粒流动性； 4）化学物理性能稳定的，不会因放置或者温升而分解变质； 5）能够较好地分散磨粒的。 在平面研磨机研磨抛光时，会伴有发热现象，除了工件和研具因温度上升而发生形变难以进行高精度研磨外，在局部的磨粒作用点上也会产生相当高的温度，使加工变质层深度增加。而适当地供给加工液，可以有效保证研具有良好的耐磨性工件的形状精度及较小的加工变质层。添加剂的作用是放置或延缓磨料沉淀，并对工件发挥化学作用以提高研磨抛光加工效率和质量。

研磨维修中常用磨料的知识介绍

研磨维修中常用磨料的知识介绍 就研磨机而言，其种类有很多，比较常用的有研磨动力头、单圆盘研磨机、双圆盘研磨机、方板的平面研磨机、量面研磨机、球面研磨机、球磨机、滚针研磨机、玻璃研磨机、中心孔研磨机、无心式研磨机、齿轮研磨机以及振动抛光机等。在研磨维修中常用磨料有哪些以及要注意哪些事项？ 各种磨料具有不同的特性，机械密封件研磨研磨密封环常用磨料的有： ①机械密封件研磨之氧化铝系列氧化铝系列磨料有白色的结晶的纯氧化铝（AI203）俗称百刚玉，（Cr203）称为铬刚玉，常用的是百刚玉，初研时采用百刚玉和碳化硼，粒度在W14-W40，半精研用W14－W7,精研用W5-W1 ②机械密封件研磨之炭化物系主要有纯炭化硅（Sic）为绿色，当有微量元素时为黑色，还有炭化硼（BC）为黑色硬度超过炭化硅而低于金刚石。还有金刚石系。正确选择磨料非常重要，根据修磨的工件的硬度来选择磨料。机械密封件研磨之磨料的硬度决定加工密封环的速度和表面粗糙度。常用的是，百刚玉和碳化硼。初研时采用粒度在W14-W40，半精研用W14－W7,精研用W5-W1。

浅谈双面研磨机的电流表的作用

浅谈双面研磨机的电流表的作用 平面研磨机有单面和双面的分类，大家有发现双面研磨机上有电流表吗？这是用来干什么的，双面研磨机电流表对研磨机工作有哪些帮助？ 双面研磨机电流表在磨矿中的关键作用,因为双面研磨机各部运转是否正常、操作条件是否有变化，在一定程度上会反映在电流的变化上。 磨机正常运转，操作条件不变，运转电流一般是保持在额定范围之内不变的。当磨机由于给矿量增大操作不慎引起“胀肚”现象。这时除声音有异常外，观察电流表就会发现电流下降。它说明双面研磨机内钢球和矿石已不做冲击和磨剥作用了，而是与筒体一起旋转，此时电机作功，所以电机运转就达不到额定电流了。 如果传动部位发生异常，如有别劲地方或联结部位螺丝松动等现象，电流就会出现周期性的上升下降摆动严重。 因此，通过观察电流表的电流变化是可以发现设备和生产条件上的一些不正常现象，双面研磨机操作工人在生产过程中必须经常注意观察电流变化。