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镀膜工艺流程中工艺参数的控制和对膜层沉积的影响 :
偏压:偏压施加于工件上,在辉光清洗时工件(阴极)与炉体之间产生辉光放电,部分气被电子离化产生离子,离子(带正电)在负偏压作用下受工件吸引轰击清洗工件表面,偏压越大,对工件的轰击净化越干净,但同时工件本身的温升也越大,特别是尖角位棱角位置;在离子轰击中用于加速离子,提高离子轰击工件表面的能量,去除表面氧化层和吸附物,达到提高膜层结合力的作用。镀膜工艺流程中工艺参数的控制和对膜层沉积的影响:烘烤温度:真空室抽气时烘烤有利于真空室和工件解吸已吸附的空气和水气,这是保证膜色调纯正的重要因素之一。
真空镀膜技术优点表现在哪里?真空镀膜技术在塑料制品上的应用***,真空镀膜机厂表示,塑料具有易成型,成本低,质量轻,不腐蚀等特点,塑料制品应用广泛,但因其缺点制约了扩大应用。偏压越大离子附加能量越强,沉积过程中对膜层的轰击净化作用越明显,膜层越致密,同时颜色会越浅,膜层L值(亮度)会增加,显微硬度会增加、同时膜层外观粗糙度会变差,沉积过程中工件和膜层温升越大,偏压太大可能使工件变形受伤,或产生热应力崩膜。通过真空镀膜技术的应用,使塑料表面金属化,将有机材料和无机材料结合起来,大大提高了它的物理、化学性能。
常见的溅射有两种:不反应溅射和反应溅射。不反应溅射指溅射气体和镀膜材料之间不发生化学反应。因此不反应溅射所使用的气体为惰性气体,一般使用y气(Ar),称为工作气体。不反应溅射一般都用在镀金属膜层上,导电性能越好的材料,溅射速率越高。
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