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物理l气相沉积(真空镀膜)基本方法 :
1、从沉积粒子能量(中性原子)来看,真空蒸镀为0.1-1eV,溅射为1-10eV,离子镀为0.1-1eV(此外还有高能中性原子)。
2、从沉积速率来看,真空蒸镀为0.1-70μm/min,溅射为0.01-0.05μm/min(磁控溅射接近于真空蒸镀),离子镀为0.1-50μm/min。
镀膜工艺流程中工艺参数的控制和对膜层沉积的影响:
靶基距:靶基距是影响成膜速率的重要因素之一,随着靶基距增加,被溅射材料射向基片时与气体分子碰撞的次数增多,同时等离子体密度也减弱,动能减少,沉积速率降低,但膜层外观较好。靶基距太小,沉积太快,工件温升大,膜层外观差
辉光清洗:对工件施加负偏压,产生辉光放电,利用ya离子轰击工件表面,这种辉光放电清洗作用比较柔和,一般采取由弱到强的轰击清洗顺序,是怕工件太脏时一开始就强轰击,可能产生强烈的打火而损伤工件。
镀膜玻璃的特点
1。热反射玻璃的特点:
通过镀不同薄膜,控制对太阳直接辐射的反射、透过和吸收,达到调节热量传递的目的。热反射镀膜玻璃具有各种各样的颜色,热反射玻璃有以下特点:
1能有效控制太阳直接辐射能的入射量。在夏季白天太阳直接照射时,与普通透明玻璃相比,可将向室内传递的太阳辐射热减少15%--70%;
2丰富多采的反射色调和佳的装饰效果;
3良好的遮避作用;
4能减弱紫外光的透过。
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