无尘室内该如何防止微粒子污染呢？应遵守下列基本原则：排除/除去，在无法避免大量微粒子发生的机台中，为了不让无尘室内产生微粒子，因此直接做对外排气的动作，即所谓的局部排气。针对排气的对策如下：由于导入同量的外气是必要的，但会伴随大量的能源消耗。所以无法说是肯定理想的对策。因此尽可能地在压缩排气量的同时，不仅仅是向无尘室外排气，而应采用将除去粒子后的空气再回流到无尘室内之对策。

实验室洁净度及压力梯度：主实验室：面积为150m2，净空高度为2.7m，规划温度（空调操控），规划湿度（能够思考添加抽湿机），洁净等级为三十万级—十万级，换气次数25次/小时，相对压力为+10Pa，规划送风量900m3/h，过滤器送风口的风量为1000 m3/h。缓冲室：面积为2.9m2，净空高度为2.7m，洁净等级为十万级，换气次数15次/小时，相对压力为+5Pa，规划送风量110m3/h，过滤器送风口的风量为500 m3/h。

净化工程洁净室的温湿度主要是根据您的加工技术请求来断定，在满意加工技术的条件下，必选应当思考人的舒适感。随着空气洁净度请求的进步，技术对温湿度的请求也越来越高，有必要到达必定的温湿度等级。例如在大规模集成电路生产的光刻曝光技术中，作为掩膜板资料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差请求越来越小。直径100um的硅片，温度上升1度，就导致了0.24um线性膨胀，所以有必要有±0.1度的恒温，一起请求湿度值通常较低，因为人出汗今后，对商品将有污染，特别是怕钠的半导体车间，这种车间不宜超越25度。