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微波石墨烯生产设备服务至上
来源:2592作者:2020/6/24 5:19:00






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石墨烯的制备工艺

增长表面。获得石墨烯的一种完全不同的方法是直接在表面上种植石墨烯。因此,得到的层的大小并不依赖于初始的石墨晶体。。要么碳已经存在于底物中,要么必须由化学气相沉积(CVD)添加。

化学汽相淀积

化学气相沉积化学气相沉积是一种众所周知的过程,在这种过程中,基底会暴露在气态化合物中。这些化合物在表面上分解,以形成薄膜,使其成为副产品。

有很多不同的方法来达到这个目的,例如用灯丝或等离子体加热样品。由于石墨烯的众多特殊性能通常只有在单层石墨烯薄膜上才会出现,因此,制备出高质量、大面积的石墨烯薄膜是科学研究的基础。石墨烯可以增加了暴露的镍膜的气体混合物H2、CH4和Ar 1000°C。甲i烷在表面分解,从而使水基因蒸发。碳向Ni扩散。在原子层冷却后,石墨烯层在表面生长,类似于Ni扩散法。因此,平均层数取决于镍的厚度,可以用这种方法控制。此外,石墨烯的形状也可以被控制。这些石墨烯层可以通过聚合物支持转移,它将附着在石墨烯的顶部。在刻蚀镍后,石墨烯可以被盖在所需的衬底上,聚合物的支撑被剥离或蚀刻。采用这种方法,可以将几层石墨烯冲压在一起,以减少电阻。由于旋转rel在其他层面上,涡轮层石墨没有伯纳堆积,因此单个石墨烯层很难改变它们的电子特性,因为它们与其他层的相互作用很小。


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