广州潽拓光电科技有限公司——广州Agilent分子泵升级

了可以承受更大的气体流量，TwisTorr 305 Q 系列分子泵还拥有其他 TwissTorr 分子泵除高压缩比之外的所有特点：***的连接选项（RS232、NFC、蓝牙等），可以通过 A-Plus 软件连接电脑或者通过 Vacuum Link APP 用手机进行无线操控AFS 悬浮轴承技术，抗震性好，噪音低免维护轴承，零运行成本无油运行，可确保真空系统洁净体积小巧，可安装在任何位置，有利于轻松集成防辐射和防磁场设计，无嵌入式电子设备，可在强磁场和辐射环境下运行低电磁辐射，确保不会干扰工艺制程

水环式真空泵市场

　　水环式真空泵行业在国内和国际市场上发展形势都十分看好，我国这几年的水环式真空泵发展态势十分好，预测，到2020年，中国的水环式真空泵进口额将达到惊人的50亿美元，超过美国的49亿美元成为世界上水环式真空泵进口国。届时将排在水环式真空泵进口额3到6位的分别是：日本、印度、德国和法国。

　　近十年来，在少数水环式真空泵企业的带动下，多品种、密封性能、强度要求、调节功能、动作性能和流通性能，特别是密封性能，都有了长足的进步。但就整体来说，差距还很大，有很多工作要做。

测试过程

试验期间，涡轮泵以满转速持续运行。初始的磁场设置为 1mT ，泵在该磁场下运行 12 个小时以稳定转子温度；然后关闭磁场，再运行 12 个小时以使转子降温；然后再分别把磁场设置为 2mT，按照前面的步骤继续进行测试，直至磁场增加到 7mT 。

测试结果

当磁场逐步增加后，被测分子泵转子的平衡温度也随之上升，当磁场强度为 7mT 时，平衡温度上升到 100 摄氏度左右（安捷伦分子泵的允许温度为 120 度）。

另外，KIT 使用该测试平台测试了另一台其它品牌的分子泵，一系列的对比测试表明，安捷伦分子泵在相同的磁场条件下转子的平衡温度明显较低（ 5mT 时，低大约40度）。

TwisTorr 404 FS 涡轮分子泵TwisTorr 404 FS 配备 DN100 法兰，可提供 400 L/s 的抽速，对轻质气体可实现高压缩比，还配备已注册商标的安捷伦悬浮轴承技术 (AFS)，确保低振动和低噪音，适用于各种敏感环境。TwisTorr 404 FS 的高压缩比、高前级耐压能力和免维护运行使其成为一种可靠、、低成本的分子泵。

404 FS 是 UHV 系统、核研究、离子注入器、表面分析、电子显微镜和低温应用的选择。该泵的智能控制器可根据系统需要自动优化泵的性能。

广州潽拓光电科技有限公司——广州Agilent分子泵升级空挡滑行不可取

分子泵工作时转速很高（数万转/分钟），加减速过程中，不可避免的要经过某些危险的共振频率，长时间在这些共振频率运转，会增加轴承负荷、进而增加分子泵故障的风险。在真空下自然停泵（空挡滑行）时，由于真空下空气阻力很小，分子泵转子要经过几十分钟甚至数小时的时间才能完全停止，其中在共振频率运转的时间也会比较长。一般建议分子泵停机时，手动或者通过充气阀（Vent Valve），通过充气口充入空气/氮气，增加转子阻力使其快速停机；手动充气时，要注意控制充气速度，使停机时间和分子泵启动时间相当（根据泵的大小不同而不同，一般为 3-10 分钟）。

涡轮泵以满转速持续运行。初始的磁场设置为 1mT ，泵在该磁场下运行 12 个小时以稳定转子温度；然后关闭磁场，再运行 12 个小时以使转子降温；然后再分别把磁场设置为 2mT，按照前面的步骤继续进行测试，直至磁场增加到 7mT 。修复应用中使用技术，MACHINA 可以协助 OPD 实验室内部艺术品的修复，由于一些尺寸较大或者极其精致的作品可能无法移动，它也可以被轻松移动到现场或者其他的实验室和博物馆。

在考古和艺术品鉴定、修复行业，科学仪器发挥着越来越重要的作用，艺术史学家、考古学家和艺术品修复使用各种仪器来研究世界各地的艺术和文化遗产，近年来，一种使用安捷伦真空产品的全新仪器正在帮助他们给古董艺术品带来新的生命。

不过分子泵的高转速使得它十分“脆弱”。一粒灰尘甚至气体本身都会对运转中的风扇造成巨大的伤害。所以分子泵只可以用来抽已经具有一定真空度的腔体，并且其出气端也要保证有较好的真空度防止气体倒灌伤害叶片。我们采取的办法是给分子泵接入一个前级泵，一般都是用机械泵。只有先用机械泵将腔体中的真空度抽至10Pa以下的时候，分子泵才可以启动。并且只要分子泵在启动状态，前级机械泵就要一致维持运转。启动和关闭都要严格遵循程序，否则就可能造成“机毁泵亡”哦。

涡轮分子泵是利用高速旋转的动叶轮将动量传给气体分子，使气体产生定向流动而抽气的真空泵。其优点是启动快，能抗各种射线的照射，耐大气冲击，无气体存储和解吸效应，无油蒸气污染或污染很少，能获得清洁的超高真空。好凯德涡轮分子泵还具有灵活的安装方式，高抽速不受高负荷或杂质气体侵入影响。