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涡轮分子泵的工作特性主要表现在以下几个方面：

（1）抽速与转速的关系抽速与转速之间的关系大致为S（4-67）。其中：g是由几何形状决定的常数；u是活动刀片的转速。随着速度的增加，泵送速度比直线略慢。这可以通过在抽速较高时对进气管电导率的限制来解释。根据（4-66），随着S1的增加，S将偏离直线。

（2）泵送速度与入口压力之间的关系在分子流的压力范围内，分子泵的泵送速度几乎没有变化。因为分子电导C与分子流动过程中的压力无关；根据公式（4-65），S1仅确定叶片形状，速度和气体类型，并且与压力无关。因此，根据公式（4-66），实际抽速与压力无关。但是，当增加压力以不满足分子流动条件（大约2×101Pa）时，由于大多数分子无法直接与叶片碰撞，因此泵速会迅速降低。如图4-62的右侧所示，曲线1、2和3对应于压缩比与不同前级泵

（3）的速度和相对分子质量之间的关系。压缩比与速度的平方根和相对分子质量成指数关系（G（4-68在公式中，G是由几何形状确定的参数。测量结果与公式基本一致。图4-63显示压缩比，其中：p代表前级泵端口的压力和力，代表分子，泵的入口压力，在相同速度下，大的气体分子具有大的压缩比，高的极限真空，轻质气体成分，压缩比小，极限真空低，即轻质分子主要处于分子泵的极限真空中；除去氢，氦等轻质分子的能力较弱。重量具有较高的压缩比，这是涡轮分子泵可用于获得清洁真空的物理基础

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半导体产业链IC制造行业属于典型的技术密集型行业，产品技术含量非常高，同时对配套产业要求较高，其中就包括真空设备配套产业。真空设备（真空阀、真空泵、真空腔体及管道等）是半导体各工艺制程环节必备的通用设备，广泛应用于芯片生产制造过程。  半导体制造设备及工艺流程半导体器件的生产制造工艺极其复杂，需要在高纯度硅片上执行一系列精密的物理或者化学操作，例如掺入相应的其它元素、形成多种金属薄膜和绝缘膜、进行表面的刻蚀处理等。

这些复杂的生产制造工艺都需要在分子泵维持的高真空环境下进行，而且对真空系统和真空设备的洁净度也有着很高的要求。分子泵在半导体设备中的应用.在半导体生产制造工艺中，分子泵广泛应用于光刻机、薄膜沉积设备、刻蚀设备、离子注入机等关键设备。光刻机光刻机是生产大规模集成电路的设备，制造和维护需要高度的光学和电子工业基础，世界上只有少数厂家掌握，因此光刻机价格昂贵。

光刻机光刻过程必须在高真空环境中实现，原因是极紫外光很娇贵，在空气中容易损耗。同时，在光刻过程中，设备的动作时间误差以皮秒计，这对磁悬浮分子泵的振动值要求极高。（注：皮秒=兆分之一秒）薄膜沉积指在晶圆表面生成多种薄膜，这些薄膜可以是绝缘体、半导体或导体。它们由不同的材料组成，是使用多种工艺生长或沉积的。

分子泵转速对氦质谱检漏仪的灵敏度有什么影响？

今天，小编将向大家介绍分子泵转速对氦质谱检漏仪的灵敏度有什么影响，希望对大家有所帮助。分子泵是利用高速旋转的转子把动量传输给气体分子,使之获得定向速度,从而被压缩、被驱向排气口后为前级抽走的一种泵。分子泵是获得高和超高的关键设备之一。

它被广泛应用于电子工业、表面工程、核能工业、等离子体技术、薄膜工程等工业领域和研究部门。它操作简单、启动时间短,在分子流区域内对各种气体的有效抽速几乎不变,对分子量高的气体压缩比高,可以获得清洁无油的高和超高环境。

分子泵是氦质谱检漏仪中获得高重要部位,是氦质谱检漏仪中不可或缺关键部件,分子泵性能直接影响检漏仪性能参数的好坏,分子泵的发展直接影响着氦质谱检漏技术。逆扩散型的检漏仪的检漏口是连接到高泵与低泵之间,所以被检试件的可检漏压力就是高真泵的前级耐压。如果试件压力超过这个压力,将使高泵不能正常工作。普通涡轮分子泵的前级耐压,一般不超过50Pa,远达不到高压检漏的要求。