低压法

操作压力10MPa左右，温度400～450℃。由于操作压力和温度都比较低，故对设备要求低，容易管理，且催化剂的活性较高，这是此法的优点。但此法所用催化剂对毒物很敏感，易，使用寿命短，因此对原料气的精制纯度要求严格。又因操作压力低，氨的合成效率低，分离较困难，流程复杂。实际工业生产上此法已不采用了。合成氨工艺流程大概可以分为：原料气的制备；原料气的净化；气体压缩和氨的合成四大部分。

其他法

工业化连续生产（在催化剂的作用下）的过程中有副产物氨气生成，将这些氨气压缩并降温冷却即成液态氨。在此过程中要进行排污，而带入杂质，因此得到的液氨纯度较低，用途受到限制。

在氨的回收装置中，洗涤塔顶部有排气口，要控制排放气体中的含氨量，要低于环保要求。澄江纺机厂和南京化工大学协作创制的氨回收系统，是吸收和压缩相结合的方法。当年2000年1月由中国纺机器材协会组织的现场考察，一致认为该氨回收循环系统是成功的，在整个回收系统是创造性地运用了低压吸收、低压精馏、低温除水、压缩冷凝的“三低一压”技术，既简化设备又节约能源，该法是在低温低压下操作运转，安全系数大，还有利于减少维修力量。主要有洗涤塔（吸收塔）、精馏塔、压缩机、冷凝器、液氨贮存罐。

2、20-60MPa中压高温生成法

这种方法对于液氨厂家来说是经济实惠的一种生产液氨的方法。加入一定量的催化剂，将氨气与氮气混合制成。这种方法由于降低了对于压力和温度的要求，对于生产过程中使用的机器的要求也不是很高，所以这种方法使用较多。

03、10MPa低压高温生成法

将氨气与氮气混合加入一定量的催化剂，控制压力在10MPa左右，温度为400-450摄氏度，这种对于机器的要求很低，很容易实现。

超纯氨的分子式是分子式：NH3，超纯氨是微电子氮化硅掩蔽膜的主要原材料，其反应为： 750—850℃ ：SiH4+NH3---Si3N4+H2+N2 ，850—900℃ ：SiCl4+NH3---Si3N4+HCl+N2。虽然NH3在半导体制造用量不大，但在光电子领域、超纯氨是十分重要的原材料，NH3的质量好坏直接决定发光二极管（LED）的亮度，它的价格高低左右着LED的经济性。