在一般工业清洗中，酸，碱和水的配合比较常见，有些金属用水洗要加入防锈剂；在精密和超精密工业清洗中。大部分要求将水制成纯净水。通常以电阻率来衡量水纯度。半导体工业要求在18MΩ/cm以上。而TN型液晶生产10MΩ/cm就可以了，还有一些行业对细菌含量要求很严。近几年，中国部分地区严重缺水，对清洗用水提出了挑战。有的城市已经严禁用普通水洗车，而只能使用回收的中水，或者雾化水的节水设备。


在精密工业清洗中，制备纯水费用昂贵。水洗必然要加热和烘干，增加很多漂洗工位。耗能大，运行成本通常比溶剂洗要高；另外，以往大量的含有化学活性剂和污垢的废水未经处理就直接排放。有些还挟带了毒性很大的重金属，严重地污染了环境，必须增加污水处理设施。半水基型清洗剂也叫准水基型清洗剂，是由高沸点溶剂及活性剂等组成如醇类，有机烃类等。


一个好的精密工业清洗剂必须具备以下条件：①化学性能稳定，不易与被清洗物发生反应；②表面张力和粘度小，渗透力强；③沸点低，可以自行干燥；④没有闪点，不；⑤KB值不应太高，避免与被清洗物相溶；⑥低毒性，使用安全；⑦非ODS和低GWP值（变 暖潜能值），环保。如果不考虑上述第7条。佳的清洗剂就是CFC和TCA。它们的化学稳定性好，可以长期保存不变质。