含钴钻头介绍：

含钴钻头就是含有化学元素钴Co的钻头，一般为高速钢原材料中加入钴，加入钴的目的是提高钻头的抗高温，抗研磨的特性，从而使钻孔达到目的。实际操作上，一般用于加工不锈钢，铜，铝制品。这些产品的都有高强度的特性，也就是可塑性差。这些材料钻孔过程中，排出的削都依附在钻头上，为了解决这个问题，后人就发明了含钴钻头；普通钻头一遇高温，急速膨胀，钻柄部不断施加的扭力就让钻头本身断掉，或者钻尖翻边不能使用；简单一句话，含钴钻就是加入了化学元素钴，用来切削高研磨，容易产生高温金属的高速钢钻头。

PVD (物理) ：PVD(Physical Vapor Deition)，指利用物理过程实现物质转移，将原子或分子由源转移到基材表面上的过程。它的作用是可以使某些有特殊性能(强度高、耐磨性、散热性、耐腐性等)的微粒喷涂在性能较低的母体上，使得母体具有更好的性能。 PVD基本方法：真空蒸发、溅射 、离子镀(空心阴极离子镀、热阴极离子镀、电弧离子镀、活性反应离子镀、射频离子镀、直流放电离子镀)。

　　离子束DLC：碳qin气体在离子源中被离化成等离子体，在电磁场的共同作用下，离子源释放出碳离子。离子束能量通过调整加在等离子体上的电压来控制。碳氢离子束被引到基片上，沉积速度与离子电流密度成正比。星弧涂层的离子束源采用高电压，因而离子能量更大，使得薄膜与基片结合力很好;离子电流更大，使得DLC膜的沉积速度更快。离子束技术的主要优点在于可沉积超薄及多层结构，工艺控制精度可达几个埃，并可将工艺过程中的颗料污染所带来的缺陷降至。

卷绕式镀膜机30年来有了较大的发展，镀膜产品广泛用于装饰、包装、电容器等领域中，可镀光学、电学、电磁、导电等多种薄膜。所用基材有PE、PET、PI、PP、OPP、BOPP、纸、泡沫塑料及布等。一般塑料基薄膜材料含水量为1%～2%，纸含水量更大，一般为5%-7%，经涂布烘干后，含水量仍有3%。由于基材含水量高，故镀膜室由初始的单室发展到目前双室或多室结构。蒸发源可以是电阻式、感应式、电子柬式以及磁控溅射式。双室结构应用普遍，其优点是：①可以蒸镀放气量较大的纸基材，并能保障镀膜质量。纸放出的大量气体从卷绕室中被排走。由于卷绕室与蒸镀室之间隔板窄缝很小，使放出来的气体不易进入蒸镀室中；②单室结构必须配置较大的排气系统才能保障蒸镀时的工作压力，而双室结构中的蒸镀室气体量较小，可配小型抽气机组，使设备成本降低，并节约能源；③卷绕室与蒸镀室分别抽气，可缩短抽气时间。