氮化钛特性：典型、通用的耐磨涂层，细微纳米级颗粒的涂层显微结构兼备高韧性。高硬度，耐高温、强抗腐蚀性，此镀钛加工涂层的工作温度在350度以内效果佳。在镀钛生产中，由于各种原因，导致各种有害杂质进入镀钛液。杂质的种类繁多，大致有金属杂质、金属氧化物、非金属杂质和种种不溶性悬浮物、有机杂质等。当一种或几种有害杂质积累到一定程度时，就会影响镀液性能和镀层质量。或者在杂质积累到有可能影响镀钛层质量之前，净化处理镀钛液，以保证镀钛药液的稳定性。

钛表面自然形成的氧化膜具有较好的抑菌作用，微晶钛技术使氧化膜的表面积更大，更加致密，强度更高，实现了更好的抑菌效果。可以使牛奶、茶水、肉汤等食物保鲜及存放时间大大提高。在空气或含氧介质中，钛表面会生成一层致密稳定、附着性强、保护性好的氧化膜，能有效抵御各种强酸、强碱甚至王水等多种腐蚀物的侵蚀。即使受到外力破坏，也会迅速重生。

化学气相沉积(ChemicalVaporDepsition)

与之对应的化学气相沉积(ChemicalVaporDepsition)简称为CVD技术。行业内通常所说的“IP”(ionplatin离子镀膜，是因为在PVD工艺技术中各种气体离子和金属离子参与成膜过程并起到重要作用，为了强调离子的作用，而统称为离子镀膜。真空镀膜是一种产生薄膜材料的技术。在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上。此项技术用于生产激光唱片(光盘)上的铝镀膜和由掩膜在印刷电路板上镀金属膜。在真空中制备膜层，包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段，但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。真空镀膜有三种形式，即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀.蒸发镀膜通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为蒸发镀膜。