在电子学方面真空镀膜更占有极为重要的地位。各种规模的继承电路。包括存贮器、运算器、告诉逻辑元件等都要采用导电膜、绝缘膜和保护膜。作为制备电路的掩膜则用到铬膜。磁带、磁盘、半导体激光器，约瑟夫逊器件、电荷耦合器件(CCD)也都甬道各种薄膜。在元件方面，在真空中蒸发镍铬，铬或金属陶瓷可以制造电阻，在塑料上蒸发铝、一氧化硅、二氧化钛等可以制造电容器，蒸发硒可以得到静电复印机用的硒鼓、蒸发钛酸钡可以制造磁致伸缩的起声元件等等。真空蒸发还可以用于制造超导膜和惯性约束巨变反应用的微珠镀层。

真空镀钛或钛的化合物，可以做成金黄、黑色、灰、红棕色、橙色等很多种颜色，增加美观效果.并且仿金镀膜氮化钛，可以以少的成本，达到人们喜爱的黄外观。耐化学腐蚀涂层：化学腐蚀包含各种酸、碱、盐，各种无机物和各种有机化学介质的腐蚀。耐磨损涂层：包含抗粘着磨损、外表疲倦磨损涂层和耐冲蚀涂层。其中有些状况还有抗低温(<538℃)磨损和抗高温(538～843℃)磨损涂层之分。

ZrN青黄2400±2001～40.5～0

ZrN青黄2400±2001～40.5～0.7650±50CrN银灰2000±2001～100.5～0.7600±50TiAlN褐-黑2700±4001～40.5～0.7800±50DLC黑色1000～80001～4<0.2<500活塞环所选用的TiN、CrN（银灰）、ZrN（青黄色）、TiAlN（从褐色到黒色可调）等是使用物理气相堆积(PVD)工艺在合金钢活塞环上构成的数微米厚的硬质薄膜。这种硬质薄膜的耐磨性优于一般的镀铬，因而滑动面的滑润性得到坚持，然后也可望取得减摩作用。类金刚石膜（DLC）已在发动机活塞环上作过使用测验，与CrN比较，在保证平等耐磨性的同时，有效地降低计算机全程监控的十二弧源离子镀膜机冲突，并将处理费用控制在平等水平，然后进步了生产率。从TiN、CrN之类的PVD硬质薄膜向在机油中有杰出润滑性的、超硬和超低冲突的类金刚石膜过渡，是往后减摩外表处理技术的发展方向。

真空镀膜可以使原料具有许多新的、的物理和分析化学特征

真空镀膜可以使原料具有许多新的、的物理和分析化学特征。20世纪70年代，物品表面表层镀膜的方法重要包括电镀和化学镀镍。前者根据插线，将锂电池电解液电解水、电解水的等离子体涂抹在另一个电极的基本表面，因此这样表面的表层镀膜的规范，基本上尽量是电的良导体，塑料薄膜的厚度也无法控制。后者采用分析化学还原法，尽量将薄膜材料配置成溶液，可以立即申请氧化还原反应。这种表面涂层方法不仅塑料薄膜的结合抗拉强度差，而且表面涂层不均匀，难以控制，还继续污水多，造成严重的空气污染。因此，这两种被称为湿式表面的表层电镀法表面的表层电镀制作技术受到很大限制。