自从进入21世纪，伴随着现代工业技术的发展，在大多数零件上，不论是外观，还是性能，越来越精细的零件都有了更高的要求。PVD技术四个工艺步骤(1)清洗工件：接通直流电源，气进行辉光放电为离子，离子轰击工件表面，工件表层粒子和脏物被轰溅抛出。面对这些严格要求，传统的零件加工办法和表面处理技术已经达不到标准。经过长时间的研发，镀钛解决了此类问题。镀钛不仅能够满足人们对于零件的耐磨性、抗腐蚀性、少耗损等等性能的要求，更解决了零件材料经不住处于高温的环境中的问题，成功保持了零件基本不会变形，硬度不会降低的状态。

镀钛板种类多，有镀钛毛丝面板、镀钛镜面板及镀钛乱纹板和镀钛雾珠板等，在经过设计师的巧思之下，不同面材可以呈现出不同的空间表现，在使用上，也可以带出线条的俐落、几何的造型等趣味感。清洗时注意不要用粗糙或尖锐的物料去擦洗产品表面，特别是镜光的，要用柔软一点的、不易脱毛的绒布去擦洗，砂钢和拉丝表面，要顺着纹路去擦，不然很容易搞花表面。目前，镀钛材质常被运用在室内公共空间，如餐厅、客厅或玄关。但如果预算上许可，大也可以用在更衣间或卧房，或设计于桌面。使用镀钛镜面板，其反光效果好，可以让视觉空间变得前卫。

感应加热式蒸发镀膜

利用高频电磁场感应加热，使材料汽化蒸发在基片表面凝结成膜的技术。

优点蒸发速率大，可比电阻蒸发源大10倍左右  蒸发源的温度稳定，不易产生飞溅现象坩埚温度较低，坩埚材料对膜导污染较少缺点蒸发装置必须屏蔽造价高、设备复杂

在真空中，高能粒子轰击材料表面，使其原子获得足够的能量而逸出表面，到达衬底凝结成膜的技术。

与真发镀膜相比，溅射镀膜适用于所有（包括高熔点）材料，具有附着力强、成分可控、易于规模化生产等优点。

但其工作气压低于蒸发镀膜，因此膜层的含气量和孔隙率大于蒸发镀膜。

基片置于合适的位置是获得均匀薄膜的前提条件.

b、压强的大小. 为了保证膜层质量,压强应尽可能低Pr≦(Pa)

L表示蒸发源到基片的距离为L(cm)。

c、蒸发速率.蒸发速率小时,沉积的膜料原子(或分子)上立刻吸附气体分子,因而形成的膜层结构疏松,颗粒粗大,缺陷多;反之,膜层结构均匀致密,机械强度高,膜层内应力大.

d、基片的温度.在通常情况下,基片温度高时,吸附原子的动能随之增大,形成的薄膜容易结晶化,并使晶格缺陷减少;基片温度低时,则没有足够大的能量供给吸附原子,因而容易形成无定形态薄膜.