PVD镀钛通常称谓：镀钛，镀钛厂，镀膜,真空镀钛，镀铬，镀钛加工，PVD，表面处理，钛板，表面处理加工,真空镀膜加工，表面处理，PVD涂层，模具镀钛，纳米涂层，真空电镀，零件镀钛，精密模具镀钛，冲压模具镀钛，压铸模具镀铬，耐磨涂层，真空镀钛，镀钛涂层，离子镀钛，真空涂层，冲棒镀钛，五金模具镀钛，塑胶模镀钛，纳米镀钛,金属表面处理等.  

金属表面处理PVD镀钛特点：增寿、增硬、增值,并以其硬高度、高耐磨、强抗腐蚀性、抗高温、抗黏着性等***的使用性能广泛应用于模具工业中。

PVD是英文Physical VaporDeition（物理气相沉积）的缩写，是指在真空中将钛、金、石墨、水晶等金属或非金属、气体等材料利用溅射、蒸发或离子镀等技术，在基材上沉积形成不同颜色和质感的薄膜。PVD膜层赋予产品表面金属质感和丰富的颜色，并改善耐磨、耐腐蚀性，延长寿命。大家在使用镀镍砂时一个主要困扰是：砂的镀覆活性不稳定，由此导致上砂质量的波动。已经广泛应用于表壳、表带、手机壳、建筑五金、模具刀具等产品。

此外，多弧镀涂层颜色较为稳定，尤其是在做 TiN 涂层时，每一批次均容易得到相同稳定的金黄色，令磁控溅射法望尘莫及。多弧镀的不足之处是，在用传统的 DC 电源做低温涂层条件下，当涂层厚度达到0.3μm 时，沉积率与反射率接近，成膜变得非常困难。在通常情况下,基片温度高时,吸附原子的动能随之增大,形成的薄膜容易结晶化,并使晶格缺陷减少。而且，薄膜表面开始变朦。多弧镀另一个不足之处是，由于金属是熔后蒸发，因此沉积颗粒较大，致密度低，耐磨性比磁控溅射法成膜差。

产生原因：产品周转运输或在炉内生产时素材受到污染，产品表面有尘点、毛丝等，PVD出炉后灰尘脱落露出底材颜色。

解决方案：缩短产品在炉外停滞时间及炉内洁净度管控，减少异物掉落在产品表面。

产生原因：主要原因是产品表面脏污，膜层无法在产品上沉积或结合力差，在自然或人为的因素下产品表面漏出底材。

解决方案：将产品清洗干净，避免污染产品，确保表面洁净度。