真空镀钛是指在真空的环境下，采用弧光放电，把阴极钛靶作为蒸发源，通过钛靶与阳极机体之间的弧光放电，使钛靶材蒸发并形成离子体，产生的离子体高速向产品上运动，在产品表面进行沉积，形成了钛膜层。要想镀出坚固的钛层，首先要有好的设备。因为在镀膜过程中，真空系统必需要工作稳定，炉体保压要好，如果在镀膜过程中有杂气掺入，颜色就会不理想，严重的还会脱钛。他们会采用结构镶件表面镀钛来加大光滑度，这种也可以，不过效果稍差。

PVD真空镀层按照膜层应用来分类可分为装饰膜层和硬质膜层：

装饰膜层可以改善工件外观装饰性能和色泽同时使工件更耐磨耐腐蚀；硬质膜层用于提高工件的表面硬度和耐磨性，降低表面的摩擦系数，提高工件的使用寿命。

除油—去污—流水冲洗—去离子水冲洗—脱水

过清洗线后将工件挂到PVD治具上，放入烤箱烘烤干燥

薄膜的制备方法很多，主要有气相法和液相法，其中气相法又分为物理气相沉积（PVD）和化学气相沉积（CVD）两大类。

直流二级离子镀，是稳定的辉光放电；其原理是在真空条件下，利用气体放电使气体或被蒸发物质离化，在气体离子或被蒸发物质离子轰击作用的同时，把蒸发物或其他反应物镀在基片上的工艺。空心阴极离子镀与热丝弧离子镀，是热弧光放电，产生电子的原因均可简单概括为金属材料由于被加热到很高的温度，导致核外电子的热发射；阴极电弧离子镀的放电类型与前面几种离子镀的放电类型均不相同，它采用的是冷弧光放电。在众多离子镀膜技术中阴极电弧离子镀可谓是其中的集大成者，其目前已经逐步发展为硬质薄膜领域的主力。

增强型磁控阴极弧：阴极弧技术是在真空条件下，通过低电压和高电流将靶材离化成离子状态，从而完成薄膜材料的沉积。增强型磁控阴极弧利用电磁场的共同作用，将靶材表面的电弧加以有效地控制，使材料的离化率更高，薄膜性能更加优异。

　　过滤阴极弧：过滤阴极电弧(FCA )配有的电磁过滤系统，可将离子源产生的等离子体中的宏观粒子、离子团过滤干净，经过磁过滤后沉积粒子的离化率为100%，并且可以过滤掉大颗粒， 因此制备的薄膜非常致密和平整光滑，具有抗腐蚀性能好，与机体的结合力很强。除油—去污—流水冲洗—去离子水冲洗—脱水过清洗线后将工件挂到PVD治具上，放入烤箱烘烤干燥薄膜的制备方法很多，主要有气相法和液相法，其中气相法又分为物理气相沉积（PVD）和化学气相沉积（CVD）两大类。