载网支持膜的选择标准是什么?

载网支持膜的选择标准：

载网支持膜，俗称铜网，或者碳网。其主要分为三个部分：下层是具有一定目数的金属网，可以是铜网、镍网、金网等。金属网上面为有机层（方华膜），上面为一层碳膜。根据测试和样品需求不同，载网的选择也不尽相同。载网有：简单载网支持膜、碳支持膜、微栅网、纯碳支持膜，选择合适的载网，首先考虑样品的性质和溶剂的类别。如果是体系的纳米粒子，可以选择纯碳支持膜（根据经验，只要溶剂不是或者，普通的碳支持膜也可满足要求)。如果样品是分散于乙醇或者中的粉末样品，则选择普通碳支持膜即可。

双面导电胶带的粒径有几微米量级以上

如果是硬粉末样品，可直接撒在样品台的双面导电胶带表面，再在粉末上面垫一张既光亮又不起毛的洁净纸，如可用双面导电碳胶带上白色的隔层纸盖上，再用表面比较平坦的物体，如镊子的大头部位在所垫的隔层纸上轻微压一下，之后再用洗耳球或吹气吹掉粘结不牢靠的颗粒，也可以在木质或塑料等较硬的桌子旁边敲击几下，以振掉粘结不牢靠的颗粒。如果颗粒的粒径有几微米量级以上，可以寻找粒径相对比较大、表面平整，又呈水平状态的颗粒进行分析。

真空镀膜法与离子溅射法相比

真空镀膜采用真空镀膜仪进行蒸镀，其原理是在高真空状态下，通过加热靶材，使之蒸发成极细小的颗粒（原子团）而挥发出来，然后通过自身的重力降落到样品的表面形成一层导电膜层，使样品表面导电。现在多数镀膜仪通常选用金、铂和金钯合金等，蒸镀金属膜的厚度约为5~10nm。同样的靶材用真空镀膜法与离子溅射法相比，真空镀膜法所形成的金属膜层的颗粒相对较粗，而且膜的均匀性较差，操作较麻烦，既费时又耗能、耗材，所以成本比较高。目前真空镀膜法已经很少使用，使用较多的是离子溅射法。