真空镀膜法与离子溅射法相比

真空镀膜采用真空镀膜仪进行蒸镀，其原理是在高真空状态下，通过加热靶材，使之蒸发成极细小的颗粒（原子团）而挥发出来，然后通过自身的重力降落到样品的表面形成一层导电膜层，使样品表面导电。现在多数镀膜仪通常选用金、铂和金钯合金等，蒸镀金属膜的厚度约为5~10nm。同样的靶材用真空镀膜法与离子溅射法相比，真空镀膜法所形成的金属膜层的颗粒相对较粗，而且膜的均匀性较差，操作较麻烦，既费时又耗能、耗材，所以成本比较高。目前真空镀膜法已经很少使用，使用较多的是离子溅射法。

小心地施加灯丝的加热电流

直热式的钨阴极发射通过对灯丝的直接加热，把电子从钨阴极材料中激发出来。若增加灯丝的加热电流，灯丝的温度就会随之上升，发射的束流也会随之加大。当灯丝的发射束流达到其高点时，即使再加大灯丝的加热电流，其发射的束流也很难再有明显增加，而只会增加灯丝的温度，从而加速灯丝的挥发，进而导致灯丝很快烧断。也就是说操作者应该小心地施加灯丝的加热电流，以获得既大又稳定的发射束流，而灯丝的温度又能恰到好处，不至于升得太高而造成过热，这个点就叫作饱和点。

热发射电子需要电磁透镜才能形成光束

热发射电子需要电磁透镜才能形成光束，因此电磁透镜对于使用热发射电子的SEM来说是的。通常组装两个组：

会聚透镜：顾名思义，会聚透镜使用会聚电子束，组装在真空柱中，位于电子下方。通常不止一个，并且有一组会聚光圈与之匹配。 但是，会聚透镜仅用于会聚电子束，与成像焦点无关。

物镜：物镜是真空柱底部的电磁透镜，负责将电子束的焦点会聚到样品表面。