扫描电镜利用其放大倍数大且连续可调的特点

金属及其合金的性能是由微观组织、化学成分和晶体结构来决定的，连续可调的放大倍数等特点使得扫描电镜在断口形貌，微区形貌及定性定量分析，失效分析等方面有着重要作用。光学显微镜可以用来观察常规组织，整体上看到两种或几种相的分配比例，但是由于其放大倍数有限（一般大放大倍数2000倍），很多组织中的片层结构、针状结构、第二相、共晶体等很难清楚的观测到。扫描电镜利用其放大倍数大且连续可调的特点，实现了宏观形貌与显微组织同时观测的目的。

真空镀膜法与离子溅射法相比

真空镀膜采用真空镀膜仪进行蒸镀，其原理是在高真空状态下，通过加热靶材，使之蒸发成极细小的颗粒（原子团）而挥发出来，然后通过自身的重力降落到样品的表面形成一层导电膜层，使样品表面导电。现在多数镀膜仪通常选用金、铂和金钯合金等，蒸镀金属膜的厚度约为5~10nm。同样的靶材用真空镀膜法与离子溅射法相比，真空镀膜法所形成的金属膜层的颗粒相对较粗，而且膜的均匀性较差，操作较麻烦，既费时又耗能、耗材，所以成本比较高。目前真空镀膜法已经很少使用，使用较多的是离子溅射法。

扫描电子显微镜(ScanningElectronMicros

1960年代，扫描电子显微镜（Scanning Electron Microscope）问世，它利用高能电子束对样品进行扫描成像。 电子与构成样品的原子的相互作用可以产生包含样品表面的形貌、成分和其他信息的信号。从原理上讲，扫描电子显微镜是利用非常精细聚焦的高能电子束在样品上扫描，激发各种物理信息。 通过对这些信息的接受、放大和显示成像，可以获得对试样表面形貌的观察。 桌面式扫描电镜（Scanning Electron Microscope）是一种紧凑型电子显微镜，可以放置在实验台上进行操作。其原理与传统（落地式）扫描电子显微镜相同。 组成部分包括：电子发射、电磁透镜、信号检测、真空系统、计算机控制系统。