二次电子的能量低,受局部电场的影响变化大

二次电子的能量低，受局部电场的影响变化大，如图a所示的颗粒在电子束的照射下因充了负电子而发白，在这发白的颗粒周围感应了正电荷，而感应了正电荷的区域导致二次电子的发射量减小，使颗粒周围明显变暗。由于二次电子像分辨力高、阴影效应不明显、景深深、立体感强，所以它是扫描电镜中主要的成像方式。它特别适用于观察和分析起伏较大的粗糙面，如金属、陶瓷和塑料等材料的断口，所以在材料学科中扫描电镜得到了广泛应用。

台式扫描电镜由电子光学系统、信号收集及显示系统

台式扫描电镜由电子光学系统、信号收集及显示系统、真空系统及电源系统组成。

　　电子光学系统：电子光学系统由电子、电磁透镜、扫描线圈和样品室等部件组成。其作用是用来获得扫描电子束，作为使样品产生各种物理信号的激发源。

　　电子：其作用是利用阴极与阳极灯丝间的高压产生高能量的电子束。

　　电磁透镜：其作用是把电子的束斑逐渐聚焦缩小，使原来直径约50um的束斑缩小成一个只有数nm的细小束斑。

　　扫描线圈：其作用使电子束进入末级透镜强磁场区前就发生偏转。

聚焦电子束与试样相互作用

由电子发射的能量为 5 ～ 35keV 的电子，以其交 叉斑作为电子源，经二级聚光镜及物镜的缩小形成具有一定能量、一定束流强度 和束斑直径的微细电子束，在扫描线圈驱动下，于试样表面按一定时间、空间顺序作栅网式扫描。聚焦电子束与试样相互作用，产生二次电子发射(以及其它物 理信号)，二次电子发射量随试样表面形貌而变化。二次电子信号被探测器收集 转换成电讯号，经视频放大后输入到显像管栅极，调制与入射电子束同步扫描的 显像管亮度，得到反映试样表面形貌的二次电子像。

钨灯丝台式扫描电镜的操作性能以及技术参数

看表面形貌，电子成像，亮的区域高，暗的区域低。非常薄的薄膜，背散射电子会造成假像。导电性差时，电子积聚也会造成假像。

钨灯丝台式扫描电镜性能是很多人关心的因素，所谓的性能包括两个因素，包括钨灯丝台式扫描电镜的操作性能以及技术参数。首先是操作性能，在设计机器的过程中操作性能是重要考察的因素，考验是设备部件之间的相互衔接，能否在测量的过程中更加的操作钨灯丝台式扫描电镜是影响设备性能的关键因素。不仅是钨灯丝台式扫描电镜操作性能，钨灯丝台式扫描电镜的测量技术参数也是不可忽视性能因素，看看台式扫描电镜的技术参数是否能够满足自己的测量的需求。