二次电子的能量低,受局部电场的影响变化大

二次电子的能量低，受局部电场的影响变化大，如图a所示的颗粒在电子束的照射下因充了负电子而发白，在这发白的颗粒周围感应了正电荷，而感应了正电荷的区域导致二次电子的发射量减小，使颗粒周围明显变暗。由于二次电子像分辨力高、阴影效应不明显、景深深、立体感强，所以它是扫描电镜中主要的成像方式。它特别适用于观察和分析起伏较大的粗糙面，如金属、陶瓷和塑料等材料的断口，所以在材料学科中扫描电镜得到了广泛应用。

电磁透镜有聚光镜及物镜两种

通常，电磁透镜有聚光镜及物镜两种：聚光镜是电子向样品移动时遇到的个透镜。该透镜在电子束锥再次打开前使电子束会聚，并在撞击扫描样品之前由物镜再次会聚。聚光镜决定了电子束的大小(这决定了分辨率高低)，而物镜的主要作用是将电子束聚焦到样品上。它的透镜系统还包含扫描线圈，用来对样品表面进行栅网式扫描。很多时候，会将光阑与透镜相结合来控制电子束的大小。

首先在扫描电镜窗口下找到感兴趣的样品区域，其次在能谱软件窗口对样品区域进行点、线或面扫描，即可获取样品区域的元素种类、分布及含量百分比。

钨灯丝台式扫描电镜的操作性能以及技术参数

看表面形貌，电子成像，亮的区域高，暗的区域低。非常薄的薄膜，背散射电子会造成假像。导电性差时，电子积聚也会造成假像。

钨灯丝台式扫描电镜性能是很多人关心的因素，所谓的性能包括两个因素，包括钨灯丝台式扫描电镜的操作性能以及技术参数。首先是操作性能，在设计机器的过程中操作性能是重要考察的因素，考验是设备部件之间的相互衔接，能否在测量的过程中更加的操作钨灯丝台式扫描电镜是影响设备性能的关键因素。不仅是钨灯丝台式扫描电镜操作性能，钨灯丝台式扫描电镜的测量技术参数也是不可忽视性能因素，看看台式扫描电镜的技术参数是否能够满足自己的测量的需求。