高分辨率台式扫描电镜和透射电镜操作上的差异

　　这两种电子显微镜系统在操作方式上也有所不同。扫描电镜通常使用15kV以上的加速电压，而透射电镜可以将其设置在60-300kV的范围内。

　　与扫描电镜相比，透射电镜提供的放大倍数也相当高:透射电镜可以将样品放大5000万倍以上，而对于扫描电镜来说，限制在1-2百万倍之间。

　　然而，扫描电镜可以实现的视场(FOV)远大于透射电镜，用户可以只对样品的一小部分进行成像。同样，扫描电镜系统的景深也远高于透射电镜系统。

全自动扫描电镜对样品的要求

1、试样在高真空中能保持稳定；

2、表面受到污染的试样，要在不破坏试样表面结构的前提下进行适当清洗，然后烘干。新断开的断口或断面，一般不需要进行处理，以免破坏断口或断面的结构状态；

　　有些试样的表面、断口需要进行适当的侵蚀，才能暴露某些结构细节，则在侵蚀后应将表面或断口清洗干净，然后烘干。

3、全自动扫描电镜用的试样大小要适合仪器样品座的尺寸，不能过大，样品座尺寸各仪器不均相同，以分别用来放置不同大小的试样，样品的高度也有一定的限制。

扫描电镜广泛应用于许多学科领域

台式扫描电镜在材料科学、金属材料、陶瓷材料半导体材料、化学材料等领域，进行材料的微观形貌、组织、成分分析，各种材料的形貌组织观察，材料断口分析和失效分析，材料实时微区成分分析，元素定量、定性成分分析，快速的多元素面扫描和线扫描分布测量，晶体/晶粒的相鉴定，晶粒尺寸、形状分析，晶体、晶粒取向测量。

　　扫描电镜具有高分辨率，景深大，立体感强，放大倍数可调等优点，因此广泛用于半导体，无机非金属材料和器件的检测。除了时间和费用外，它还对电子显微镜的操作者产生了束缚，是研究微观世界的重要工具之一。它为人们提供了研究纳米尺度物质结构的有力手段，已广泛应用于许多学科领域，例如材料科学和质量过程控制

全自动扫描电镜的组成结构

全自动扫描电镜位于焦平面上下的一小层区域内的样品点都可以得到良好的会焦而成象，这一小层的厚度称为场深，通常为几纳米厚，所以可以用于纳米级样品的三维成像，工作距离指从物镜到样品高点的垂直距 离，如果增加工作距离，可以在其他条件不变的情况下获得更大的场深，如果减少工作距离，则可以在其他条件不变的情况下获得更高的分辨率。全自动扫描电镜电子和背散射电子可以用于成象，但后者不如前者，所 以通常使用次级电子。

由于电子束只能穿透样品表面很浅的一层，所以只能用于表面分析。表面分析以特征X射线分析常用，所用到的探测器有两种：能谱分析仪与波谱分析仪，前者速度快但精度不高，后者非常，可以检测到“痕 迹元素”的存在但耗时太长。全自动扫描电镜的组成结构，了解其组成结构有利于我们更加合理的使用扫描电镜，从而延长扫描电镜的使用寿命及提高操作