金百辰智能科技(浙江)有限公司从事汽车零部件、家电类、机械配件等塑胶成型与pvd镀膜工艺加工。
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pvd真空镀膜工艺参数与您分享粗真空(105~102Pa)
在粗真空状态下,气态空间的特性和大气差异不大,气体分子数目多,并仍以热运动为主,分子之间碰撞十分频繁,气体分子的平均自由程很短。通常,在此真空区域,使用真空技术的主要目的是为了获得压力差,而不要求改变空间的性质。电容器生产中所采用的真空浸渍工艺所需的真空度就在此区域。
pvd真空镀膜工艺参数与您分享高真空(10-1~10-6 Pa)
在高真空状态下,气体分子密度更低,容器中分子数很少。因此,分子在运动过程中相互碰撞很少,气体分子的平均自由程已大于一般真空容器的线度,绝大多数的分子与器壁相碰撞。因而在高真空状态蒸发的材料,其分子(或微粒)将按直线方向飞行。另外,由于容器中的真空度很高,容器空间的任何物体与残余气体分子的化学作用也十分微弱。在这种状态下,气体的热传导和内摩擦已变得与压强无关。
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