金百辰智能科技（浙江）有限公司从事汽车零部件、家电类、机械配件等塑胶成型与pvd镀膜工艺加工。

pvd镀膜技术与您分享真空镀膜随着PVD镀膜技术应用的迅速推广，吸引了国内外们和相关企业积极研发，至今无论是PVD沉积技术、PVD的制备工艺，还是PVD设备配套装备与部件，都有了长足的进步。

1.冷阴极电弧 阴极电弧技术是在真空条件下，通过低电压和高电流的弧光放电将靶材气化、离化成等离子体状态，从而实现薄膜材料的沉积。近阴极电弧蒸发源有新的发展，主要是通过有效强制冷却和电磁场的设计，在两者共同作用下，使靶材的离化率更高，薄膜性能更加优异。

2.磁过滤阴极弧 配以的电磁过滤系统，将电弧产生的等离子体中的中性宏观粒子、分子团等大颗粒过滤干净，经磁过滤后沉积粒子的离化率达100%，因此制备的薄膜非常致密和平整光滑，具有抗腐蚀性能好，与基体的结合力更强。

3.柱状或平面状大面积电弧源 保证高离化率的同时，减少大颗粒沉积的比例，达到既有好的附着力，又有较好的表面光洁度效果。

4.中频磁控溅射 增加离化率，减少电荷积累引起的异常放电，预防靶表面现象，沉积工艺更稳定。

pvd镀膜技术与您分享PVD真空镀膜的过程没有想象当中那么容易，而且整个过程的工艺还是比较复杂的，当我们在做的时候，也分为多个不同的原理，想要做到均匀性，也会受到很多因素的影响，在人们做的时候，如何让镀膜变得更均匀，可以从以下这些角度来考虑。

PVD真空镀膜的均匀性，这和厚度有着一定的关系，我们必须要首先保障厚度是均匀的。在整个光学薄膜的尺度上来看，选择这种方式来进行镀膜，看起来就会更加的均匀，能够更好的减少粗糙的感觉。但如果我们用更小的尺度来进行衡量，确实也会存在着一些不平等的情况。对于均匀性的衡量，不同的衡量尺度，终所得到的结论都会存在着或多或少的差异，这需要根据我们所使用的领域来作出判断。

pvd镀膜技术与您分享超高真空（<10-6 Pa）

在高真空状态下，每立方厘米的气体分子数在100个以下。分子间的碰撞很少，分子主要与容器壁相碰撞。高真空的用途之一是得到纯净的气体，其二是获得纯净的固体表面。此时气体分子在固体表面上是以吸附停留为主。

利用真空技术可获得与大气情况不同的真空状态。电子材料、电子元器件和半导体集成电路的研制和生产与真空技术有着密切的关系。真空技术已广泛用于工业生产、科学实验和高新技术的研究等领域。