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真空镀膜pvd厂与您分享电阻加热蒸发

电阻加热蒸发电阻加热蒸发方式是简单也常用加热方法，一般适用于熔点低于1500℃的镀膜材料，通常将线状或片状的高熔点金属(W、Mo、Ti、Ta、氨化硼等)做成适当形状的蒸发源，装上蒸镀材料，通过电流的焦耳热使镀料熔化、蒸发或者升华，蒸发源的形状主要有多股线螺旋形、U形、正弦波形、薄板形、舟形、圆锥筐形等。同时，该方法要求蒸发源材料具有熔点高:饱和蒸气压低:化学性能稳定，在高温下不应与镀膜材料发生化学反应:具有良好的耐热性，功率密度变化小等特点，采用大电流通过蒸发源使之发热，对膜材直接加热蒸发,或把膜材放入石墨及某些耐高温的金属氧化物(如A202，BO)等材料制成的坩埚中进行间接加热蒸发。

电阻加热蒸发镀膜具有局限性:难熔金属具有低的蒸气压，难以制成薄膜:有此元素容易和加热丝形成合金:不易得到成分均匀的合金膜。由于电阻加热蒸发方式结构简单、价格低廉、易于操作，因而是一种应用很普遍的蒸发方式。