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科普模具镀钛的五大新技术1.将电弧产生的等离子体中的中性宏观粒子、分子团等大颗粒过滤干净，减少大颗粒沉积的比例，模具镀钛极大地提高真空室内的离化率以及沉积速率，又有较好的表面光洁度效果。

2.中频磁控溅射增加离化率，特别是可以实现对非导体的镀前清洗，模具镀钛经磁过滤后沉积粒子的离化率达100%，柱状或平面状大面积电弧源保证高离化率的同时，沉积工艺更稳定。

3.高能脉冲叠加直流偏压减少工件的打火，模具镀钛通过电磁场的作用可以大大增加沉积离子的能量，从而改善膜层的结合力和致密性。

4.全封闭非平衡磁控溅射通过全封闭非平衡电磁场的作用，磁过滤阴极弧配以的电磁过滤系统，模具镀钛减少电荷积累引起的异常放电，增强膜基结合力和薄膜沉积的均匀性。

5.阳极层离子源辅助沉积提高轰击清洗的质量，因此模具镀钛的薄膜非常致密和平整光滑，通过纳米级厚度的不同成份沉积层复合结构膜，改善膜层的结合力。

真空镀膜设备旋片式真空泵是抽除密封容器中的气体从而获得真空的主要设备。正确的保养可以增加使用时间，减少腐蚀。 1、经常检查油质情况，真空泵油发生了乳化或者是变质，要及时更换，保障真空泵工作正常。 2、真空镀膜机真空泵一定要用的真空油，按实际使用条件和性能要求进行周期更换。

3、经常检查油位位置，旋片真空泵运转时，油位到油标中心为准。 4、检查真空泵管路及结合处有无松动，漏气现象。用手转动真空泵，试试是否转动灵活。 5、有条件的对管道中同样进行清理，保障管路畅通。 6、停机前应先关闭通道已防止真空由回流到被抽系统中。 8、真空镀膜设备旋片式真空泵重新装配后，应进行试运行，在清洗的过程中，在旋片真空泵箱体中会残留一定量易挥发物，待挥发完以后，再投入正常工作。

pvd真空镀膜厂与您分享薄膜厚度上的均匀性，也可以理解为粗糙度，在光学薄膜的尺度上看(也就是1/10波长作为单位，约为100A)，真空镀膜的均匀性已经相当好，可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内，也就是说对于薄膜的光学特性来说，真空镀膜没有任何障碍。

但是如果是指原子层尺度上的均匀度，也就是说要实现10A甚至1A的表面平整，是现在真空镀膜中主要的技术含量与技术瓶颈所在，具体控制因素下面会根据不同镀膜给出详细解释。