金百辰智能科技（浙江）有限公司从事汽车零部件、家电类、机械配件等塑胶成型与pvd镀膜工艺加工。

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PVD镀膜晶格有序度的均匀性：

这决定了薄膜是单晶，多晶，非晶，是真空镀膜技术中的热点问题，具体见下。

主要分类有两个大种类：

蒸发沉积镀膜和溅射沉积镀膜，具体则包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，溶胶凝胶法等等

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对于蒸发镀膜：

一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程(散点-岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜。

厚度均匀性主要取决于：

1、基片材料与靶材的晶格匹配程度

2、基片表面温度

3、蒸发功率，速率

4、真空度

5、镀膜时间，厚度大小。

组分均匀性：

蒸发镀膜组分均匀性不是很容易保证，具体可以调控的因素同上，但是由于原理所限，对于非单一组分镀膜，蒸发镀膜的组分均匀性不好。

晶向均匀性：

1、晶格匹配度

2、基片温度

3、蒸发速率

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物理气相沉积技术是简单的,环境友好的,无污染,可消耗少,均匀,致密,并在强结合到基片.PVD技术被广泛用于门窗五金,灯具,珠宝,工艺品和其他装饰产品的加工.PVD现在在硬件领域非常流行,许多的硬件制造商已经开始开发PVD产品并进行批量生产.

PVD与CVD:有什么区别?

物理气相沉积(PVD)是一种广泛使用的薄膜制造技术.说到这个短语,许多人将其与化学气相沉积(CVD)进行比较.尽管这两个短语在字面上仅相差一个字,但它们之间的差异实际上是很大的.

物理气相沉积使用物理方法,即物质的三种状态(气态,固态,液态)的转换,因此在制造过程中不会产生新的物质;化学气相沉积涉及化学反应,包括旧材料的消耗和新物质的生产.可以看出,物理气相沉积几乎没有污染,因此在当前的"环境友好"社会中,物理气相沉积越来越受到人们的青睐.