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pvd真空镀膜加工与您分享DLC涂层的基本结构　　　　

类金刚石涂层不是由某个单质组成，而是一种含有SP3和SP2键的非晶碳涂层，在传结构上属于长程无序而短程有序的结构。根据涂层中碳原子的键合方式以及SP3和SP2键含量比例的不同，可以分为如下三种结构：　　　　

1、非晶碳涂层，含有SP3和SP2键；　　　　

2、含氢的非晶碳涂层，除了含SP3和SP2键之外，还含有一定数量的氢；　　　　

3、四面体非晶碳涂层，含有大于80%的SP3键碳原子，也称非晶金刚石涂层。　　　　

以上就是DLC涂层生长机理是怎样的及其基本结构的相关内容介绍。通过上述内容可知，DLC涂层的生长机理可以根据不同结构划分。不同的生长机理带来的结构与性能特点也不同。

pvd真空镀膜加工与您分享薄膜厚度上的均匀性，也可以理解为粗糙度，在光学薄膜的尺度上看(也就是1/10波长作为单位，约为100A)，真空镀膜的均匀性已经相当好，可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内，也就是说对于薄膜的光学特性来说，真空镀膜没有任何障碍。

但是如果是指原子层尺度上的均匀度，也就是说要实现10A甚至1A的表面平整，是现在真空镀膜中主要的技术含量与技术瓶颈所在，具体控制因素下面会根据不同镀膜给出详细解释。

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物理气相沉积技术是简单的,环境友好的,无污染,可消耗少,均匀,致密,并在强结合到基片.PVD技术被广泛用于门窗五金,灯具,珠宝,工艺品和其他装饰产品的加工.PVD现在在硬件领域非常流行,许多的硬件制造商已经开始开发PVD产品并进行批量生产.

PVD与CVD:有什么区别?

物理气相沉积(PVD)是一种广泛使用的薄膜制造技术.说到这个短语,许多人将其与化学气相沉积(CVD)进行比较.尽管这两个短语在字面上仅相差一个字,但它们之间的差异实际上是很大的.

物理气相沉积使用物理方法,即物质的三种状态(气态,固态,液态)的转换,因此在制造过程中不会产生新的物质;化学气相沉积涉及化学反应,包括旧材料的消耗和新物质的生产.可以看出,物理气相沉积几乎没有污染,因此在当前的"环境友好"社会中,物理气相沉积越来越受到人们的青睐.