含氢DLC涂层的生长机理　　　　

对于含氢的DLC涂层，与CVD金刚石涂层一样，一般认为碳与碳、碳与氢原子进行杂化，形成坚固的四面体结构，氢原子的存在促进形成SP3键，而刻蚀掉已经形成的SP2键；在无序的网络结构中，氢原子能够终止碳原子至外端的悬挂键，阻止碳原子形成SP2键。由于氢原子的存在可以帮助和促进SP3键的形成，因此人们认为氢的存在是DLC涂层中形成SP3键所必需的，而且还建立了SP3与氢含量的关系。　　　　

研究表明，随着环境中氢原子含量的增加，涂层中SP3键含量增加，而且还发现氢含量为50%附近时硬度至大。　　　　

含氢类金刚石涂层的生长模型分为三个阶段，即等离子体的反应（气体的分子或原子分解、电离）；等离子体与表面作用以及涂层浅表面的作用。

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金属pvd镀膜公司与您分享DLC涂层的基本结构　　　　

类金刚石涂层不是由某个单质组成，而是一种含有SP3和SP2键的非晶碳涂层，在传结构上属于长程无序而短程有序的结构。根据涂层中碳原子的键合方式以及SP3和SP2键含量比例的不同，可以分为如下三种结构：　　　　

1、非晶碳涂层，含有SP3和SP2键；　　　　

2、含氢的非晶碳涂层，除了含SP3和SP2键之外，还含有一定数量的氢；　　　　

3、四面体非晶碳涂层，含有大于80%的SP3键碳原子，也称非晶金刚石涂层。　　　　

以上就是DLC涂层生长机理是怎样的及其基本结构的相关内容介绍。通过上述内容可知，DLC涂层的生长机理可以根据不同结构划分。不同的生长机理带来的结构与性能特点也不同。

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请问什么是PVD？

A1: PVD是英文Physical Vapor Deition的缩写，中文意思是“物理气相沉积”，是指在真空条件下，用物理的方法使材料沉积在被镀工件上的薄膜制备技术。

Q2: 请问什么是PVD镀膜？ 什么是PVD镀膜机？

A2: PVD(物理气相沉积)技术主要分为三类，真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和真空离子镀膜。相对于PVD技术的三个分类，相应的真空镀膜设备也就有真空蒸发镀膜机、真空溅射镀膜机和真空离子镀膜机。

近二十多年来，真空离子镀技术的发展是快的，它已经成为了当代的表面处理方法之一。 我们通常所说的PVD镀膜，指的就是真空离子镀膜；通常所说的PVD镀膜机，指的也就是真空离子镀膜机。

金属pvd镀膜公司与您分享国内在这些技术的研发和实际运用方面整体发展落后于国外，大部分成熟技术和工艺方法需要引进国外的技术。但近十年来，因为国内经济的不断提高及人民生活水平的改善，极大影响了镀膜工业在国民经济的地位和作用，对于产品镀膜的要求越来越多，市场需求越来越大。

在表面改务中，真空镀膜技术的发展是快的，它已经成为了当代进的表面处理方法之一。真空镀膜技术初现于 20 世纪 30 年代，四五十年始出现工业应用，工业化大规模生产开始于 20 世纪 80 年代，在电子、航天、包装、装潢、烫金印刷等工业中取得广泛的应用。真空镀膜的功能是多方面的，这也决定了其应用场合非常丰富。真空镀膜技术使得固体表面具有耐磨损、耐高温、耐腐蚀、、防辐射、导电、导磁、绝缘和装饰等许多优于固体材料本身的***性能，达到提高产品质量、延长产品寿命、节约能源和获得显著技术经济效益的作用。因此真空镀膜技术被誉为发展前途的重要技术之一，并已在高新技术产业化的发展中展现出诱人的市场前景。