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物理气相沉积技术是简单的,环境友好的,无污染,可消耗少,均匀,致密,并在强结合到基片.PVD技术被广泛用于门窗五金,灯具,珠宝,工艺品和其他装饰产品的加工.PVD现在在硬件领域非常流行,许多的硬件制造商已经开始开发PVD产品并进行批量生产.

PVD与CVD:有什么区别?

物理气相沉积(PVD)是一种广泛使用的薄膜制造技术.说到这个短语,许多人将其与化学气相沉积(CVD)进行比较.尽管这两个短语在字面上仅相差一个字,但它们之间的差异实际上是很大的.

物理气相沉积使用物理方法,即物质的三种状态(气态,固态,液态)的转换,因此在制造过程中不会产生新的物质;化学气相沉积涉及化学反应,包括旧材料的消耗和新物质的生产.可以看出,物理气相沉积几乎没有污染,因此在当前的"环境友好"社会中,物理气相沉积越来越受到人们的青睐.

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Q7: 请问PVD能在镀在什么基材上？

A7: PVD膜层能直接镀在不锈钢以及硬质合金上，对锌合金、铜、铁等压铸件应***行化学电镀铬，然后才适合镀PVD。

Q8: 请问PVD镀膜能够镀出的膜层种类有那些？

A8: PVD镀膜技术是一种能够真正获得微米级镀层且无污染的环保型表面处理方法，它能够制备各种单一金属膜（如铝、钛、锆、铬等）、氮化物膜（TiN[钛金]、ZrN〔锆金〕、CrN、TiAlN）和碳化物膜（TiC、TiCN），以及氧化物膜（如TiO等）。

pvd真空镀膜设备价格与您分享PVD真空镀膜是在真空中将钛、金、石墨、水晶等金属或非金属、气体等材料利用溅射、蒸发或离子镀等技术,在基材上形成薄膜的一种表面处理过程。与传统化学镀膜方法相比，真空镀膜有很多优点：如对环境无污 染，是绿色环保工艺；对操作者无伤害；膜层牢固、致密性好、抗腐蚀性强，膜厚均匀。真空镀膜技术中经常使用的方法主要有：蒸发镀膜（包括电弧蒸发、电子蒸发、电阻丝蒸发等技术）、溅射镀膜（包 括直流磁控溅射、中频磁控溅射、射频溅射等技术），这些方法统称物理气相沉积（Physical Vapor Deition）， 简称为PVD。