稀土抛光粉的粒度及粒度分布对抛光粉性能有重要影响。

　　对于一定组分和加工工艺的抛光粉，平均颗粒尺寸越大，则玻璃磨削速度和表面粗糙度越大。在大多数情况下，颗粒尺寸约为4μm的抛光粉磨削速度。相反地，如果抛光粉颗粒平均粒度较小，则磨削量减少，磨削速度降低，玻璃表面平整度提高，标准抛光粉一般有较窄的粒度分布，太细和太粗的颗粒很少，无大颗粒的抛光粉能抛光出高质量的表面，而细颗粒少的抛光粉能提高磨削速度。

目前，我国生产系稀土抛光粉的原料有下列几种：（1）氧化（CeO2），由混合稀土盐类经分离后所得（w（CeO2）=99%）；（2）混合稀土氢氧化物（RE（OH）3），为稀土精矿（w（REO）≥50%）化学处理后的中间原料（w（REO）=65%,w（CeO2）≥48%）；（3）混合氯化稀土（RECl3），从混合氯化稀土中萃取分离得到的少铕氯化稀土（主要含La,Ce,Pr和Nd,w（REO）≥45%,w（CeO2）≥50%）；（4）高品位稀土精矿（w（REO）≥60%,w（CeO2）≥48%），有内蒙古包头混合型稀土精矿，山东微山和四川冕宁的氟碳矿精矿。

以上原料中除种外，第2,3,4种均含轻稀土（w（REO）≈98%），且以CeO2为主，w（CeO2）为48%~50%.我国具有丰富的资源，据测算，其工业储量约为1800万吨（以CeO2计），这为今后我国持续发展稀土抛光粉奠定了坚实的基础，也是我国独有的一大优势，并可促进我国稀土工业继续高速发展。

　　1.4主要生产工艺及设备

　　1.4.1高系稀土抛光粉的生产

　　以稀土混合物分离后的氧化为原料，以物理化学方法加工成硬度大，粒度均匀、细小，呈面心立方晶体的粉末产品。其主要工艺过程为：原料→高温→煅烧→水淬→水力分级→过滤→烘干→系稀土抛光粉产品。

　　主要指标：产品中w（REO）=99%,w（CeO2）=99%;稀土回收率约95%;平均粒经1μm~6μm（或粒度为200目~300目），晶形完好。该产品适用于高速抛光。这种高抛光粉早代替了古典抛光的氧化铁粉（）。

　　1.4.2中系稀土抛光粉的制备

　　用混合稀土氢氧化物（w（REO）=65%,w（CeO2）≥48%）为原料，以化学方法预处理得稀土盐溶液，加入中间体（沉淀剂）使转化成w（CeO2）=80%~85%的中级系稀土抛光粉产品。其主要工艺过程为：

　　原料→氧化→优溶→过滤→酸溶→沉淀→洗涤过滤→高温煅烧→细磨筛分→中级系稀土抛光粉产品。主要设备：氧化槽，优溶槽，酸溶槽，沉淀槽，过滤机，煅烧炉，细磨筛分机及包装机。