以稀土抛光粉中CeO2量来划分：

　　稀土抛光粉的主要成分是CeO2,据其CeO2量的高低可将抛光粉分为两大类：一类是CeO2含量高的价高质优的高抛光粉，一般CeO2/TREO≥80%,另一类是CeO2含量低的廉价的低抛光粉，其含量在50%左右，或者低于50%,其余由La2O3,Nd2O3,Pr6O11组成。

此外，稀土抛光粉也可以根据其添加剂的不同种类来划分，稀土抛光粉生产技术属于微粉工程技术，稀土抛光粉属于超细粉体，国际上一般将超细粉体分3种：纳米级（1nm~100nm）；亚微米级（100nm~1μm）；微米级（1μm~100μm），据此分类方法，稀土抛光粉可以分为：纳米级稀土抛光粉、亚微米级稀土抛光粉及微米级稀土抛光粉3类，通常我们使用的稀土抛光粉一般为微米级，其粒度分布在1μm~10μm之间，稀土抛光粉根据其物理化学性质一般使用在玻璃抛光的后工序，进行精磨

以上原料中除种外，第2,3,4种均含轻稀土（w（REO）≈98%），且以CeO2为主，w（CeO2）为48%~50%.我国具有丰富的资源，据测算，其工业储量约为1800万吨（以CeO2计），这为今后我国持续发展稀土抛光粉奠定了坚实的基础，也是我国独有的一大优势，并可促进我国稀土工业继续高速发展。

　　1.4主要生产工艺及设备

　　1.4.1高系稀土抛光粉的生产

　　以稀土混合物分离后的氧化为原料，以物理化学方法加工成硬度大，粒度均匀、细小，呈面心立方晶体的粉末产品。其主要工艺过程为：原料→高温→煅烧→水淬→水力分级→过滤→烘干→系稀土抛光粉产品。

稀土抛光粉的应用

　　由于系稀土抛光粉具有较优的化学与物理性能，所以在工业制品抛光中获得了广泛的应用，如已在各种光学玻璃器件、电视机显像管、光学眼镜片、示波管、平板玻璃、半导体晶片和金属精密制品等的抛光。

　　高系稀土抛光粉，主要适用于精密光学镜头的高速抛光。实践表明，该抛光粉的性能优良，抛光效果较好，由于价格较高，国内的使用量较少。