（氧化铁）是历早使用的抛光材料，但它的抛光速度慢，而且铁锈色的污染也无法消除。随着稀土工业的发展，于二十世纪30年代，首先在欧洲出现了用稀土氧化物作抛光粉来抛光玻璃。在第二次中，一个在伊利诺斯州罗克福德的WF和BarnesJ公司工作的雇员，于1943年提出了一种叫做巴林士粉（Barnesite）的稀土氧化物抛光粉，这种抛光粉很快在抛光精密光学仪器方面获得成功。由于稀土抛光粉具有抛光、质量好、污染小等优点，激起了美国等国家的群起研究。这样，稀土抛光粉就以取代传统抛光粉的趋势迅速发展起来。

以稀土抛光粉中CeO2量来划分：

　　稀土抛光粉的主要成分是CeO2,据其CeO2量的高低可将抛光粉分为两大类：一类是CeO2含量高的价高质优的高抛光粉，一般CeO2/TREO≥80%,另一类是CeO2含量低的廉价的低抛光粉，其含量在50%左右，或者低于50%,其余由La2O3,Nd2O3,Pr6O11组成。

　　主要指标：产品中w（REO）=99%,w（CeO2）=99%;稀土回收率约95%;平均粒经1μm~6μm（或粒度为200目~300目），晶形完好。该产品适用于高速抛光。这种高抛光粉早代替了古典抛光的氧化铁粉（）。

　　1.4.2中系稀土抛光粉的制备

　　用混合稀土氢氧化物（w（REO）=65%,w（CeO2）≥48%）为原料，以化学方法预处理得稀土盐溶液，加入中间体（沉淀剂）使转化成w（CeO2）=80%~85%的中级系稀土抛光粉产品。其主要工艺过程为：

　　原料→氧化→优溶→过滤→酸溶→沉淀→洗涤过滤→高温煅烧→细磨筛分→中级系稀土抛光粉产品。主要设备：氧化槽，优溶槽，酸溶槽，沉淀槽，过滤机，煅烧炉，细磨筛分机及包装机。